[发明专利]一种膜上膜内缺陷的检测方法在审

专利信息
申请号: 201710675809.8 申请日: 2017-08-09
公开(公告)号: CN109387527A 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 郭连俊;杨慎东;颜圣佑 申请(专利权)人: 苏州精濑光电有限公司
主分类号: G01N21/958 分类号: G01N21/958
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 黄行军
地址: 215214 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 待测基板 上膜 检测 光学检测技术 缺陷扫描单元 空气折射率 灰阶图像 缺陷部位 最小灰阶 透明的 摄取 影像 扫描 驱动 节约
【说明书】:

发明涉及光学检测技术领域,具体地指一种膜上膜内缺陷的检测方法。驱动缺陷扫描单元对透明的待测基板进行扫描,获取待测基板缺陷部分;将缺陷部分的最大或最小灰阶值与第一标准值进行对比,通过将两者的差值与设定值进行比较,判断该缺陷部分是位于膜内还是膜上。本发明通过待测基板和空气折射率不同这一基本原理,位于膜上和膜内的缺陷在摄取影像上呈现不同的灰阶图像,然后通过对比确定缺陷是位于膜上还是膜内,能够大幅度提高缺陷部位的检测效率,节约大量的时间,具有极大的推广价值。

技术领域

本发明涉及光学检测技术领域,具体地指一种膜上膜内缺陷的检测方法。

背景技术

自动光学检查机在面板(TFT/AMOLED)制程中担任重要拦检功能,但因面板尺寸愈来愈大,检测分辨率愈来愈高,相对缺陷数量也愈来愈多。而实际上,不是每一种缺陷都会影响下一工序的进行,如果对所有检测出来的缺陷进行处理,无疑会大幅度增加检测工序的工时,降低了面板检测工作的效率。例如,在柔性板PI及LLO制程拦检,只须检测膜上或膜内缺陷,然后用根据这些缺陷进行调整即可,比如某一工序仅膜内缺陷会对其造成影响,而膜上缺陷不会对其造成影响,但自动光学检查机会同时检查出来膜内缺陷和膜上缺陷,检测人员对膜内缺陷和膜上缺陷都要进行判定分析,因此,膜上缺陷的拍照及判定分析会浪费自动光学检查机及判断人员大量的时间,造成检测效率过低。

发明内容

本发明的目的就是要解决上述背景技术中提到的现有技术的检测方法存在无法分辨膜内还是膜上缺陷的问题,提供一种膜上膜内缺陷的检测方法。

本发明的技术方案为:一种膜上膜内缺陷的检测方法,包括以下步骤:

1)、驱动缺陷扫描单元对沉积透明膜的待测基板扫描,获取待测基板的缺陷部分的扫描影像;

2)、将所述缺陷部分的最大灰阶值与第一标准值进行对比,若两者的差值小于第一设定值,则判定该缺陷部分为位于透明膜上的膜上缺陷;若两者的差值大于第一设定值,则判定该缺陷部分为位于透明膜内部的膜内缺陷;

或者,将所述缺陷部分的最小灰阶值与所述第一标准值进行对比,若两者的差值小于第二设定值,则判定该缺陷部分为位于透明膜(3)上的膜上缺陷;若两者的差值大于第二设定值,则判定该缺陷部分为位于透明膜内部的膜内缺陷。

作为进一步可选的技术方案,所述第一标准值为所述缺陷部分的平均灰阶值。

作为进一步可选的技术方案,所述检测方法还包含步骤3):驱动图像摄取单元根据膜内缺陷的位置,摄取所述膜内缺陷的图像。

作为进一步可选的技术方案,所述图像摄取单元(1)选择性地摄取所述待测基板上的一定数量的膜内缺陷。

作为进一步可选的技术方案,所述检测方法还包含步骤3):驱动图像摄取单元根据膜上缺陷的位置,摄取所述膜上缺陷的图像。

作为进一步可选的技术方案,所述图像摄取单元选择性地摄取所述待测基板上的一定数量的膜上缺陷。

作为进一步可选的技术方案,所述的步骤1中,获取测待测基板的缺陷部分包含以下步骤:

S1、获取待测基板上像素的扫描影像;

S2、对所述扫描影像进行数据处理,判定待测基板的缺陷部分。

作为进一步可选的技术方案,所述的步骤S2中,判定待测基板的缺陷部分的方法为:将待测基板上每个像素的灰阶值与相邻像素的灰阶值比对,若两者的差值小于第三设定值,则判定所述像素无缺陷;若两者的差值大于第三设定值,则判定所述像素有缺陷。

作为进一步可选的技术方案,所述第三设定值的范围为10至40。

作为进一步可选的技术方案,所述第一设定值的范围为50至200,所述第二设定值的范围为50至200。

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