[发明专利]液浸构件、曝光装置、液浸曝光装置、液浸曝光方法及元件制造方法

说明书

本发明的液浸构件(5)用于液浸曝光装置(EX)，在能于光学构件(13)的下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)。液浸构件具备配置在光学构件周围的至少一部分的第1构件(21)、与配置在曝光用光(EL)的光路(K)周围的至少一部分而能相对第1构件移动的第2构件(22)。第2构件具有通过间隙与第1构件的第1下面(23)相对的第2上面(25)、与物体可相对的第2下面(26)、以及配置在第2下面周围的至少一部分的流体回收部(27)。

本申请是分案申请，原案的申请号为201380038451.8，申请日为2013年07月 16日，发明名称为“液浸构件及曝光装置”。

背景技术

本发明是关于液浸构件、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、程序及记录媒体。

本申请案主张2012年7月20日申请的美国专利暂时申请61/674,078及2013 年3月15日申请的美国专利暂时申请61/790,328的优先权，并将其内容援用于此。

微影制程所使用的曝光装置中，已知例如美国专利第7864292号所揭示的通过液体以曝光用光使基板曝光的液浸曝光装置。

发明内容

液浸曝光装置中，例如当液体从既定空间流出、或残留在基板等物体上时，即有可能发生曝光不良。其结果，有可能产生不良元件。

本发明态样的目的，在提供一种能抑制曝光不良的发生的液浸构件、曝光装置、及曝光方法。又，本发明态样的另一目的，在提供一种能抑制不良元件的产生的元件制造方法、程序、及记录媒体。

本发明第1态样提供一种液浸构件，是用于通过在光学构件的射出面与基板之间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1 下面：以及第2构件，于该第1构件的下方，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动；该第2构件，具有与该第1构件的该第1下面通过间隙相对的第2上面、该物体可相对的第2下面、以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部。

本发明第2态样提供一种液浸构件，是用于通过光学构件的射出面与基板间的液体以曝光用光使该基板曝光的液浸曝光装置，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分，具有第1下面；液体回收部；以及第2构件，配置在该曝光用光的光路周围的至少一部分，能相对该第1构件移动；该第2构件具有通过间隙与该第1构件的该第1下面相对的第2上面、该物体相对的第2下面、以及配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部；该液体回收部能回收来自该第1下面与该第2上面间的第1空间的液体；该流体回收部能回收来自该第2下面与该物体间的第2空间的流体。

本发明第3态样的曝光装置，是通过液体以曝光用光使基板曝光，具备第1态样的液浸构件、或第2态样的液浸构件。

本发明第4态样提供一种元件制造方法，其包含：使用第3态样的曝光装置使基板曝光的动作、以及使曝光后的基板显影的动作。

本发明第5态样提供一种曝光方法，是通过光学构件的射出面与基板间的液体以曝光用光使该基板曝光，包含：使用液浸构件在能于该光学构件下方移动的该基板上形成该液体的液浸空间的动作，该液浸构件包含配置在该光学构件周围至少一部分的第1构件以及于该第1构件的下方配置在该曝光用光的光路周围至少一部分、包含通过间隙与该第1构件的第1下面相对的第2上面、该基板可相对的第2下面、配置在该第2下面周围至少一部分的流体回收部的第2构件；通过该液浸空间的该液体以从该射出面射出的该曝光用光使该基板曝光的动作；以及于该基板的曝光的至少一部分中，相对该第1构件移动该第2构件的动作。

本发明第6态样提供一种元件制造方法，其包含使用第4态样的曝光方法使基板曝光的动作、以及使曝光后的基板显影的动作。