[发明专利]一种耐温全息烫印膜有效
| 申请号: | 201710671714.9 | 申请日: | 2017-08-08 |
| 公开(公告)号: | CN107399178B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
| 发明(设计)人: | 杨志方;牟靖文;徐晓光;黄婷 | 申请(专利权)人: | 武汉华工图像技术开发有限公司 |
| 主分类号: | B41M5/42 | 分类号: | B41M5/42;B32B27/06 |
| 代理公司: | 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 | 代理人: | 李佑宏 |
| 地址: | 430223 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 金属反射层 成像层 结构保护层 微纳米结构 全息烫印膜 全息图像 耐温 紧密贴合 背胶层 烫印膜 防伪力度 高温环境 厚度均匀 模压设备 依次层叠 成品率 基材层 离型层 贴合 拓印 雾化 增设 保证 | ||
本发明公开了一种耐温全息烫印膜,所述烫印膜包括依次层叠设置的基材层、离型层、成像层、金属反射层和背胶层,所述金属反射层各处厚度均匀,其与成像层上具有全息图像微纳米结构的表面紧密贴合,从而将所述成像层的全息图像微纳米结构拓印到金属反射层上,使之可以呈现成像层的全息图像微纳米结构,所述金属反射层和背胶层之间还设有结构保护层,该结构保护层与金属反射层紧密贴合,使得结构保护层与金属反射层的贴合面上形成恰好与成像层微纳米结构相对应的结构。本发明技术方案中的耐温全息烫印膜,通过增设结构保护层,避免了烫印膜在高温环境下出现雾化、防伪力度降低等问题;节省了模压设备成本,保证了模压成品率。
技术领域
本发明属于防伪技术领域,更具体地,涉及一种耐温全息烫印膜。
背景技术
激光全息防伪图案由于技术含量高、制备工艺复杂和具备特殊的光学效果,是目前重要的防伪技术手段之一。常见的产品形式之一为全息烫印膜,其包括基材、离型层、成像层、反射层和背胶层。使用时,背胶层与包装盒粘结,将基材层和离型层等多层结构剥离,即可使得激光全息图案层保留在包装对象上。该全息防伪图案可用于展现公司的logo、宣传标语等品牌图案,同时还可以通过图案中同位异像、微缩、透镜、动态等全息效果来实现防伪效果。
在一些特殊应用领域,如水转印工艺高温烘烤(150-200℃)、烫印后过打印机或者高速烫印等情况下,全息烫印膜会出现全息亮度下降或者发雾等问题。全息图像的图案信息来自于成像层表面微纳米结构与反射层界面的反射,而全息图像的亮度取决于微纳米结构的形态。由于成像层的热转化温度远大于胶层的热软化温度,微纳米结构的耐温性实际上取决于成像层的耐温性。当温度过高时,成像层出现软化,微纳米结构在高温下发生变化,从而导致全息亮度下降,影响到烫印膜的防伪力度和美观程度。实践中,大部分生产厂商采用提高成像层的玻璃化温度来提高全息烫印膜的耐温性,然而,成像层的温度提高会导致模压温度的提高,进而导致模压设备的使用寿命下降,模压成品率下降。类似的,现有技术中,CN103009849B公开了一种耐高温层叠证件材料的制造工艺,其采用提高全息涂层的耐高温性的方式,并在全息涂层表面进行真空镀铝,以提高层叠证件的材料的耐高温性。
发明内容
针对现有技术的以上缺陷或改进需求,本发明提供了一种耐温全息烫印膜,其目的在于在现有技术的基础上添加结构保护层从而对成像层与金属反射层的全息信息图案进行保护,由此解决现有技术的烫印膜在高温环境下容易雾化、防伪力度减弱的技术问题。
为实现上述目的,按照本发明技术方案提供了一种耐温全息烫印膜,所述烫印膜包括依次层叠设置的基材层、离型层、成像层、金属反射层和背胶层,所述基材层作为最外侧的保护层,所述背胶层用于与标识物表面贴合,其特征在于,
所述金属反射层各处厚度均匀,其与成像层上具有全息图像微纳米结构的表面紧密贴合,从而将所述成像层的全息图像微纳米结构拓印到金属反射层上,使之可以呈现成像层的全息图像微纳米结构,所述金属反射层和背胶层之间还设有结构保护层,该结构保护层与金属反射层紧密贴合,使得结构保护层与金属反射层的贴合面上形成恰好与成像层微纳米结构相对应的结构,由此,全息图像信息被固定在成像层和结构保护层之间,从而实现对成像层微纳米结构的固化,保护烫印膜的全息图像信息在高温下不被破坏。
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