[发明专利]一种离线光刻方法及其系统

权利要求书

1.一种离线光刻方法，其特征在于，包括：

利用多个涂胶机分别对晶圆进行涂胶及涂胶后固化；

检测多个光刻机是否被占用，并将涂胶后固化后的所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述光刻机进行曝光；以及

检测多个显影机是否被占用，并将曝光后的所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述显影机进行曝光后固化及显影；

当所述晶圆具有相同光刻图形时，利用控制装置实时检测多个所述光刻机是否被占用，并控制第一传送装置将所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述光刻机，如果多个所述光刻机都处于被占用状态，则继续对多个所述光刻机的运行状态实施实时检测，直至所述光刻机处于未被占用状态，并且利用所述控制装置实时检测多个所述显影机是否被占用，并控制第二传送装置将所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述显影机，如果多个所述显影机都处于被占用状态，则继续对多个所述显影机的运行状态实施实时检测，直至所述显影机处于未被占用状态；

当所述晶圆具有不同的光刻图形时，利用控制装置实时检测与所述晶圆的所述光刻图形相对应的所述光刻机是否被占用，并控制第一传送装置将所述晶圆优先传送至与所述晶圆的所述光刻图形相对应的且未被占用的任一所述光刻机，并利用所述控制装置实时检测与所述晶圆的所述光刻图形相对应的所述显影机是否被占用，并控制第二传送装置将所述晶圆优先传送至与所述晶圆的所述光刻图形相对应的且未被占用的任一所述显影机；

所述涂胶机对涂胶后固化后的所述晶圆进行检测，并将检测结果传送给所述控制装置；所述控制装置判断所述检测结果是否超出第一基准值，如果所述检测结果超出所述第一基准值，所述控制装置根据所述检测结果设定光刻参数补偿，并将补偿的所述光刻参数发送至所述光刻机；

所述光刻机对曝光后的所述晶圆进行检测，并将检测结果传送给所述控制装置；所述控制装置判断所述检测结果是否超出第二基准值，如果所述检测结果超出所述第二基准值，所述控制装置根据所述检测结果设定显影参数补偿，并将补偿的所述显影参数发送至所述显影机。

2.如权利要求1所述的离线光刻方法，其特征在于，所述控制装置控制抓取手臂将所述晶圆从所述涂胶机抓取到所述第一传送装置，和/或所述控制装置控制抓取手臂将所述晶圆从所述第一传送装置优先抓取到所述光刻机；所述控制装置控制抓取手臂将所述晶圆从所述光刻机抓取到所述第二传送装置，和/或所述控制装置控制抓取手臂将所述晶圆从所述第二传送装置优先抓取到所述显影机。

3.一种离线光刻系统，其特征在于，包括：多个涂胶机、多个光刻机、多个显影机、第一传送装置、第二传送装置以及控制装置；其中，

所述第一传送装置将经所述涂胶机处理后的晶圆传送至所述光刻机；

所述第二传送装置将经所述光刻机处理后的所述晶圆传送至所述显影机；以及

所述控制装置沟通连接至所述涂胶机、所述光刻机和所述显影机；所述控制装置实时检测多个所述光刻机是否被占用，并控制所述第一传送装置将所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述光刻机；所述控制装置实时检测多个所述显影机是否被占用，并控制所述第二传送装置将所述晶圆优先传送至未被占用的任一所述显影机；

所述第一传送装置包括第一回转轨道、多个第一单向轨道以及多个第二单向轨道，各所述第一单向轨道的一端与一所述涂胶机相配合，另一端与所述第一回转轨道相连接，各所述第二单向轨道的一端与所述第一回转轨道相连接，另一端与一所述光刻机相配合；

所述第二传送装置包括第二回转轨道、多个第三单向轨道以及多个第四单向轨道，各所述第三单向轨道的一端与一所述光刻机相配合，另一端与所述第二回转轨道相连接，各所述第四单向轨道的一端与所述第二回转轨道相连接，另一端与一所述显影机相配合。

4.如权利要求3所述的离线光刻系统，其特征在于，所述第一回转轨道包括多个分回转轨道，用于将所述晶圆传送至与多个所述分回转轨道相对应的所述光刻机中的任意一个。

5.如权利要求3所述的离线光刻系统，其特征在于，所述第二回转轨道包括多个分回转轨道，用于将所述晶圆传送至与多个所述分回转轨道相对应的所述显影机中的任意一个。

6.如权利要求3至5任一项所述的离线光刻系统，其特征在于，在所述第一传送装置和/或所述第二传送装置处设置有抓取手臂，所述控制装置沟通连接至所述抓取手臂。