[发明专利]一种导电聚合物墨水及其制备方法和QLED器件在审

专利信息
申请号: 201710669580.7 申请日: 2017-08-08
公开(公告)号: CN109385143A 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 曹蔚然;梁柱荣;刘佳 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: C09D11/52 分类号: C09D11/52;H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 导电聚合物 石墨烯 量子点 墨水 分散液 正电荷 长链 制备 导电聚合物溶液 阳离子型聚合物 核壳纳米结构 空穴 量子点表面 载流子传输 醇类溶剂 发光效率 静电作用 连接结构 印刷工艺 黏度 负电荷 自组装 成膜 取向 缠绕 传输 吸引
【说明书】:

发明公开一种导电聚合物墨水及其制备方法和QLED器件,其中,方法包括:将石墨烯量子点分散在醇类溶剂中,得到石墨烯量子点分散液;将石墨烯量子点分散液加入到导电聚合物溶液中,混合后得到导电聚合物墨水。导电聚合物中含有带有正电荷的阳离子型聚合物长链,而石墨烯量子点表面含有大量负电荷,两者通过静电作用互相吸引,形成石墨烯量子点/导电聚合物核壳纳米结构,得到黏度提高、流动性减弱的适用于印刷工艺成膜的导电聚合物墨水;石墨烯量子点能够影响带有正电荷的导电聚合物长链的取向,使其自组装地缠绕在石墨烯量子点的周围,形成相互连接结构,成为载流子传输的通道,从而促进空穴的注入与传输,提高QLED器件的发光效率。

技术领域

本发明涉及量子点发光二极管技术领域,尤其涉及一种导电聚合物墨水及其制备方法和QLED器件。

背景技术

量子点发光二极管(Quantum dot light-emitting diode,QLED)是一种采用量子点材料作为发光层的新型发光器件。所述量子点材料因具有可控的小尺寸效应、超高的内量子效率以及优异的色纯度等,使其在未来显示技术领域具有巨大的应用前景。

目前所研究的QLED器件中,大多数采用导电聚合物(如PEDOT:PSS)作为空穴注入层和空穴传输层,其主要作用是使空穴顺利从ITO阳极注入和传输到量子点发光层。在常用的导电聚合物材料中,PEDOT:PSS材料具有导电率高、可见光区透光率高、在大气环境下可稳定存在以及相对其它层而言便于微纳加工等突出优点。然而,由于目前PEDOT:PSS材料的常用溶剂是水,其黏度较低、流动性较强,并不适用于通过打印工艺成膜。为此,已有不少报道使用无机p型金属氧化物作为QLED器件的空穴注入/传输层材料,如如NiOx、MoOx、WOx、VOx、NiLiMgO等,但是这些金属氧化物的空穴注入和传输性能均比不上目前常用的导电聚合物材料,并且制备出的器件性能稳定性差、重复性不好。因此,现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种导电聚合物墨水及其制备方法和QLED器件,旨在解决现有导电聚合物黏度低、流动性强不适合打印成膜以及空穴注入和传输性能较差的问题。

本发明的技术方案如下:

一种导电聚合物墨水的制备方法,其中,包括步骤:

A、将石墨烯量子点分散在醇类溶剂中,得到石墨烯量子点分散液;

B、将所述石墨烯量子点分散液加入到阳离子型导电聚合物溶液中,混合预定时间,得到导电聚合物墨水。

所述的导电聚合物墨水的制备方法,其中,所述石墨烯量子点在醇类溶剂中的质量百分比为0.01-0.8%。

所述的导电聚合物墨水的制备方法,其中,所述醇类溶剂为甲醇、乙醇、异丙醇、辛醇、丁醇、2-苯氧基乙醇、1-癸醇、苯乙醇、1-壬醇、1-辛硫醇、2-甲基-2,4-戊二醇、正辛醇、正庚醇、3-甲基环己醇、2-甲基环己醇、环己醇、4-戊基环己醇、丙三醇、三乙二醇、二乙二醇、1,5-戊二醇、环辛醇、、1,4-丁二醇、2,3-二溴丙醇、1,3-丁二醇、乙二醇、1,2-丙二醇、叔丁醇、丙醇、异丁醇、仲丁醇或环戊醇的一种。

所述的导电聚合物墨水的制备方法,其中,所述石墨烯量子点的尺寸大小为2-40nm。

所述的导电聚合物墨水的制备方法,其中,所述阳离子型导电聚合物溶液的质量百分比为0.25-7%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL集团股份有限公司,未经TCL集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710669580.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top