[发明专利]光学微结构及光学微结构层的制作方法、导光组件及显示装置

说明书

本发明提供一种光学微结构及光学微结构层的制作方法、导光组件及显示装置，该制作方法包括：形成光致聚合物膜层；对该光致聚合物膜层进行全息曝光，形成平面化折射率调制的位相型微结构。本发明提供的光学微结构的制作方法，其可以实现大尺寸产品的制备、跨尺度的光线微结构的分块制备，同时可以避免因膜层间贴合或填充造成的全息透镜中相位分布改变，而且具有较好的量产可行性和产品信赖性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种光学微结构及光学微结构层的制作方法、导光组件及显示装置。

背景技术

对于大尺寸产品上复杂精细的光学微结构的制备，目前业界普遍推荐采用纳米压印技术。纳米压印技术的基本原理是将一具有纳米图案的模版以机械力(高温、高压)在涂有高分子材料的基板上等比例压印复制纳米图案。由于省去了光学光刻掩膜版和使用光学成像设备的成本，因此，具有低成本、高产出的经济优势。

但是，在实际的产业化应用中，纳米压印技术存在大尺寸产品的压印模板的制备困难、跨尺度微结构压印时易引发不良、因膜层间贴合或填充造成的全息透镜中相位分布改变等问题，从而限制了量产可行性和产品信赖性。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种光学微结构及光学微结构层的制作方法、导光组件及显示装置，其可以实现大尺寸产品的制备、跨尺度的光线微结构的分块制备，同时可以避免因膜层间贴合或填充造成的全息透镜中相位分布改变，而且具有较好的量产可行性和产品信赖性。

为实现本发明的目的而提供一种光学微结构的制作方法，包括：

形成光致聚合物膜层；

对所述光致聚合物膜层进行全息曝光，形成平面化折射率调制的位相型微结构。

优选的，所述对所述光致聚合物膜层进行全息曝光，包括：

对激光束进行相位调制，形成所需的激光波前调制；

利用调制后的所述激光束对所述光致聚合物膜层进行曝光。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种光学微结构层的制作方法，其包括：

形成光致聚合物膜层；

对所述光致聚合物膜层中的待形成光学微结构的区域进行全息曝光，形成平面化折射率调制的位相型微结构；

对整个所述光致聚合物膜层进行均匀曝光。

优选的，所述对所述光致聚合物膜层中的待形成光学微结构的区域进行全息曝光，形成平面化折射率调制的位相型微结构，包括：

所述利用调制后的所述激光束包括多条曝光光路，且多条所述曝光光路同时对所有所述待形成所述位光学微结构的区域中的至少一部分区域进行曝光。

优选的，所述光致聚合物膜层形成在导光板的入光面或出光面，且所述待形成光学微结构的区域对应入射光直接照射在所述导光板上的照射区，所述光学微结构用于使所述入射光在所述导光板中以全反射形式进行传播。

作为另一个技术方案，本发明还提供一种导光组件，包括导光板；还包括光学微结构层，所述光学微结构层设置在所述导光板的入光面或出光面，且包括对应所述入射光直接照射在所述导光板上的照射区的光学微结构，用于使入射光在所述导光板中以全反射形式进行传播。

优选的，所述光学微结构为光栅结构。

优选的，所述光栅结构被均分或非均分成多个子光栅结构，多个所述子光栅结构的份数满足：使所述子光栅结构接收到的入射光在所述导光板中以全反射形式进行传播。

优选的，多个所述子光栅结构均为环形，且以所述照射区的中心为圆心呈同心环分布。