[发明专利]一种纳米结构过渡金属薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种纳米结构过渡金属薄膜的制备方法，其特征是包括以下步骤：

(1)选择金属镓和过渡金属，按照以下原则裁剪各纯过渡金属箔作为原料：过渡金属与镓可经过扩散退火合金化；

(2)将过渡金属箔用丙酮超声清洗10min，然后用酒精超声清洗10min，随后烘干，将过渡金属箔平铺到加热台上；

(3)将金属镓熔融，用涂覆工具蘸取液态金属镓，然后涂覆到过渡金属箔的表面，反复涂刷使得过渡金属表面的镓涂覆均匀；

(4)将涂覆好镓的过渡金属箔，在50～500℃条件下退火，使镓与过渡金属合金化，在过渡金属箔表面形成过渡金属与镓的金属间化合物；

(5)将所得合金化后的过渡金属箔放入H₂SO₄、HCl或NaOH溶液中，选择性去除合金化层中的镓，进一步用去离子水、无水乙醇清洗、干燥后，在过渡金属箔表面形成纳米结构的过渡金属薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种纳米结构过渡金属薄膜的制备方法，其特征是：过渡金属是Ti、V、Cr、Co、Ni、Cu、Zr、Nb、Ru、Os、Ir、Rh、Mo、Pd、Ag、Hf、Ta、W、Pt、Au中的一种。

3.根据权利要求1或2所述的一种纳米结构过渡金属薄膜的制备方法，其特征是：步骤(2)中，过渡金属箔用丙酮超声清洗，然后用酒精清洗、烘干和将过渡金属箔平铺到加热台上均在空气气氛下进行。

4.根据权利要求1或2所述的一种纳米结构过渡金属薄膜的制备方法，其特征是：步骤(3)中，金属镓在30℃以上熔融成液态；步骤(4)中，在50～500℃进行退火，退火时间3～15h，均在氩气保护条件下进行；步骤(5)中，H₂SO₄、HCl、NaOH溶液的浓度为0.1～5mol/L，温度为20～80℃，腐蚀时间为1～12h，反应至无气泡产生。

5.根据权利要求1所述的一种纳米结构过渡金属薄膜的制备方法，其特征是：在过渡金属箔表面形成连续的纳米结构薄膜，纳米孔的直径为3～500纳米。