[发明专利]一种硼氢化合物[NH3BH2NH3]B3H8的合成方法有效
申请号: | 201710652887.6 | 申请日: | 2017-08-02 |
公开(公告)号: | CN107416856B | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 陈学年;冯笑阁;陈西孟;刘新冉;李书军;张絜 | 申请(专利权)人: | 河南师范大学 |
主分类号: | C01B35/02 | 分类号: | C01B35/02 |
代理公司: | 新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 41139 | 代理人: | 路宽 |
地址: | 453007 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硼氢化合物 合成 技术方案要点 四氢呋喃溶液 规模化生产 合成技术 搅拌反应 目标产物 无水无氧 氨硼烷 | ||
本发明公开了一种硼氢化合物[NH3BH2NH3]B3H8的合成方法,属于硼氢化合物的合成技术领域。本发明的技术方案要点为:在无水无氧的条件下将氨硼烷加入到反应容器中,然后加入B3H7的四氢呋喃溶液THF·B3H7,于0‑50℃搅拌反应制得目标产物硼氢化合物[NH3BH2NH3]B3H8。本发明操作简单,低毒无害,安全可靠,适合规模化生产。
技术领域
本发明属于硼氢化合物的合成技术领域,具体涉及一种硼氢化合物[NH3BH2NH3]B3H8的合成方法。
背景技术
负离子B3H8-具有广泛的用途,由于其较高的含氢量,在储氢领域具有非常大的应用前景,如已合成出的储氢材料NH4[B3H8](Inorg. Chem. 2011, 50, 3738-3742),[NH3BH2NH3]B3H8(RSC Adv. 2013, 3, 7460-7465),含有大量的负氢;并且在常见的有机溶剂中有很好的溶解性,因此能够作为还原剂使用;并且可以作为合成其它含硼化合物的前驱物,如合成半导体材料MgB2的前驱物Mg(B3H8)2(Inorg. Chem. 2007, 46, 9060-9066)。
由于合成方法的限制,金属阳离子类以及其它非金属阳离子类的B3H8硼氢化合物没有得到很好的发展。因此,找到一种操作简单、安全无毒且成本低廉的合成方法非常有必要。
就目前合成M(B3H8)n类硼氢化合物的方法主要有:1、利用乙硼烷和碱金属,主要是钠汞齐,生成NaB3H8。方法中用到了毒性很大且很不安全的汞、乙硼烷等,汞对人体的危害很大,且操作不便,乙硼烷对空气极其敏感,易燃易爆,且具有剧毒,操作同样非常危险。2、单质碘在100℃氧化硼氢化钠。此温度下所需的溶剂沸点较高,耗费能源,且合成的B3H8-负离子含有除不掉的溶剂。3、钠汞齐和硼烷的四氢呋喃溶液(THF·BH3)反应。同样存在上述方法1和2中的缺点。4、在150℃将碱金属钠分散在硅胶上,然后和硼烷的四氢呋喃反应。在此温度下分散钠,操作很不方便,且有很高的危险性存在。5、球磨的条件下,把碱金属钠分散在无机盐上,如NaCl,CaCl2等,同样存在上述方法4中的缺点。
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