[发明专利]一种钙钛矿量子点及其表面处理方法

权利要求书

1.一种钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，包括步骤：

提供一种CsPbX₃钙钛矿量子点溶液，X为Cl、Br或I；

将硫氰酸盐加入所述CsPbX₃钙钛矿量子点溶液中，在惰性气体条件下，对所述CsPbX₃钙钛矿量子点进行表面修复处理；

去除溶剂后，得到表面经处理的钙钛矿量子点。

2.根据权利要求1所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，所述表面修复处理的温度为20-60 ℃，时间为10-30 min。

3.根据权利要求1所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，所述CsPbX₃钙钛矿量子点溶液为新制的CsPbX₃钙钛矿量子点溶液或陈化的CsPbX₃钙钛矿量子点溶液。

4.根据权利要求1所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，所述CsPbX₃钙钛矿量子点溶液中，所述CsPbX₃钙钛矿量子点的浓度为10-100 mg/mL。

5.根据权利要求1所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，所述硫氰酸盐为硫氰酸钠、硫氰酸铵和硫氰酸钾中的一种或多种；

和/或按硫氰酸盐的质量浓度为200-500 mg/mL，将所述硫氰酸盐加入所述钙钛矿量子溶液中。

6.根据权利要求1至5任意一项所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，所述硫氰酸盐加入所述CsPbX₃钙钛矿量子点溶液之前，还包括对所述CsPbX₃钙钛矿量子点溶液进行分离纯化处理的步骤，所述分离纯化处理的步骤包括：将钙钛矿量子点分散于易挥发的良溶剂和不易挥发的不良溶剂中，静置后离心，得到分离纯化后的钙钛矿量子点。

7.根据权利要求6所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，采用多次分离纯化处理，得到不同批次的钙钛矿量子点，其中，第一次分离纯化处理后的每一次分离纯化处理的步骤包括：取上一次离心后的溶液继续加入易挥发的良溶剂和不易挥发的不良溶剂静置后离心，得到单次分离纯化后的钙钛矿量子点。

8.根据权利要求6所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，

所述易挥发的良溶剂为正己烷、甲苯、氯仿中的一种或多种。

9.根据权利要求6所述钙钛矿量子点的表面处理方法，其特征在于，所述不易挥发的不良溶剂为十八烯。

10.一种采用如权利要求1至9任意一项所述的方法表面处理后的钙钛矿量子点，其特征在于，所述CsPbX₃钙钛矿量子点括与所述量子点核表面悬空键结合的硫氰酸根。