[发明专利]锥形多孔性抛光垫有效
申请号: | 201710645534.3 | 申请日: | 2017-08-01 |
公开(公告)号: | CN107685295B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 吉田光一;宫本一隆;川端克昌;H·桑福德-克瑞;H·B·黄;G·C·雅各布;罗水源 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
主分类号: | B24D11/00 | 分类号: | B24D11/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;胡嘉倩 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 锥形 多孔 抛光 | ||
1.一种多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其包括:
具有从基底表面向上延伸并且对抛光表面开放的大孔隙的多孔聚氨基甲酸酯基质,所述大孔隙与小孔隙互连;一部分所述大孔隙对顶部抛光表面开放;所述大孔隙延伸到具有垂直定向的所述抛光表面;和
一系列由包含所述大孔隙和所述小孔隙的所述多孔聚氨基甲酸酯基质形成的枕块结构;所述枕块结构具有从所述顶部抛光表面向下的表面以便形成从所述抛光表面成30到60度角度向下倾斜的侧壁,所述向下倾斜的侧壁从所述枕块结构的所有侧面延伸,一部分所述大孔隙对所述向下倾斜的侧壁开放,对所述向下倾斜的侧壁开放的所述大孔隙比对所述顶部抛光表面开放的所述大孔隙垂直度更小,并且在与所述向下倾斜的侧壁更正交的方向上从垂直方向抵消10到60度,其中所述垂直方向与所述抛光表面正交。
2.根据权利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中如从所述抛光表面通向所述向下倾斜的侧壁所测量,所述向下倾斜的侧壁具有5到30度的初始锥度区间。
3.根据权利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中所述向下倾斜的侧面终止于聚氨基甲酸酯基质的水平凹槽底部,所述凹槽底部具有小于所述枕块结构的孔隙率。
4.根据权利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中互连侧孔隙具有足以使得去离子水可在垂直孔隙之间流动的平均直径。
5.根据权利要求1所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中所述枕块形成栅格图案。
6.一种多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其包括:
具有从基底表面向上延伸并且对抛光表面开放的大孔隙的多孔聚氨基甲酸酯基质,所述大孔隙与小孔隙互连;一部分所述大孔隙对顶部抛光表面开放;所述大孔隙延伸到具有垂直定向的所述抛光表面,并且所述多孔聚氨基甲酸酯基质是热塑性塑料;和
一系列由包含所述大孔隙和所述小孔隙的所述多孔聚氨基甲酸酯基质形成的枕块结构;所述枕块结构具有从所述顶部抛光表面向下的表面以便形成从所述抛光表面成30到60度角度向下倾斜的侧壁,所述向下倾斜的侧壁从所述枕块结构的所有侧面延伸,一部分所述大孔隙对所述向下倾斜的侧壁开放,对所述向下倾斜的侧壁开放的所述大孔隙比对所述顶部抛光表面开放的所述大孔隙垂直度更小,并且在与所述向下倾斜的侧壁更正交的方向上从垂直方向抵消10到60度,其中所述垂直方向与所述抛光表面正交。
7.根据权利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中如从所述抛光表面通向所述向下倾斜的侧壁所测量,所述向下倾斜的侧壁具有5到30度的初始锥度区间。
8.根据权利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中所述向下倾斜的侧面终止于经压缩的聚氨基甲酸酯基质的水平凹槽底部,所述凹槽底部是光滑的并且不具有开放垂直或小孔隙。
9.根据权利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中互连侧孔隙具有足以使得去离子水可在垂直孔隙之间流动的平均直径。
10.根据权利要求6所述的多孔聚氨基甲酸酯抛光垫,其中所述枕块形成X-Y栅格图案。
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