[发明专利]内嵌触摸屏的彩色滤光片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710627979.9 申请日: 2017-07-28
公开(公告)号: CN107193153A 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 刘学敏 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 代理人: 孙伟峰,黄进
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 触摸屏 彩色 滤光 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及触控显示器技术领域,尤其涉及一种内嵌触摸屏的彩色滤光片及其制备方法。

背景技术

随着信息时代的发展及生活节奏的加快,触控技术由于其人性化设计及简单快捷的输入等特点,已经逐渐取代传统的鼠标和键盘,广泛的应用到各式各样的电子产品中,其中,电容式触摸屏由于其具有反应速度快,灵敏度高,可靠度佳以及耐用度高等优点而被广为使用。

根据触控感测层在显示面板中的设置方式不同,触控显示面板分为外挂式外挂式(Add on Mode)、内嵌式(In-cell)和外嵌式(On-cell)等结构。内嵌式触摸屏将触控功能整合于显示屏内,因而能够有效的减少整个显示器的厚度并简化生产工艺,使得产品更加轻薄,生产成本更低,从而广受欢迎。对于液晶显示器来说,其通常包括彩膜基板和阵列基板,由于阵列基板上通常包括较多的电路设计,因此内嵌式触摸屏一般将触摸系统设置于彩膜基板侧。

现有的一种内嵌触摸屏的彩色滤光片,通常是将图案化的多个触控电极直接制备形成在彩色光阻层上。具体地,首先是在彩色光阻层沉积金属薄膜层,然后通过光刻工艺将金属薄膜层刻蚀形成图案化的触控电极。在刻蚀形成图案化的触控电极的工艺过程中需要使用刻蚀液,通常地,刻蚀液中包含有强氧化性、腐蚀性的强酸,例如HNO3,在刻蚀的过程中,刻蚀液接触到彩色光阻层,导致彩色光阻层的色度发生严重变异,降低显示器的显示品质。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足,本发明提供了一种内嵌触摸屏的彩色滤光片及其制备方法,在彩色光阻层上制备触控电极的工艺过程中,可以有效地保护彩色光阻层不受刻蚀液的影响,使得显示器保持良好的显示品质。

为了达到上述的目的,本发明采用了如下的技术方案:

一种内嵌触摸屏的彩色滤光片,其包括:

衬底基板,包括多个显示区域以及包围所述显示区域的非显示区域;

黑色矩阵,形成在所述衬底基板上且位于所述非显示区域中;

第一金属层,包括图案化的多条触控连接线,所述触控连接线设置在所述非显示区域中并位于所述黑色矩阵上;

彩色光阻层,形成在所述衬底基板上且位于所述显示区域中;

透明光阻层,形成在所述彩色光阻层上并覆盖所述触控连接线;

第二金属层,包括图案化的多个触控电极,所述触控电极设置在所述非显示区域中并相对位于所述黑色矩阵上;

其中,所述多个触控电极和所述多条触控连接线一一对应连接,所述触控电极通过设置在所述透明光阻层中的过孔电性连接到对应的触控连接线。

具体地,所述第一金属层为依次叠层的Al、Nd和Mo材料层或者是依次叠层的Al和Mo材料层。

具体地,所述第二金属层为Mo材料层。

具体地,所述彩色光阻层包括红色光阻单元、绿色光阻单元和蓝色光阻单元,所述黑色矩阵间隔出多个开口部,每一个开口部对应一个所述显示区域,所述红色光阻单元、绿色光阻单元和蓝色光阻单元分别形成在一个所述开口部中。

具体地,所述第二金属层上还覆设有透明保护层。

本发明还提供了如上所述的内嵌触摸屏的彩色滤光片的制备方法,其包括步骤:

S1、提供衬底基板,在所述衬底基板上制备形成黑色矩阵,所述黑色矩阵对应设置在所述衬底基板的非显示区域中,所述黑色矩阵间隔出多个开口部,所述开口部对应于所述衬底基板的显示区域;

S2、在具有黑色矩阵的衬底基板上沉积第一金属层,应用光刻工艺将所述第一金属层刻蚀形成图案化的多条触控连接线,所述触控连接线设置在所述非显示区域中并位于所述黑色矩阵上;

S3、在所述开口部中制备形成彩色光阻层;

S4、在所述彩色光阻层上制备透明光阻层,所述透明光阻层覆盖所述彩色光阻层和所述触控连接线;

S5、应用光刻工艺,在所述透明光阻层中的预定位置刻蚀形成暴露出所述触控连接线的过孔;

S6、在所述透明光阻层上沉积第二金属层,应用光刻工艺将所述第二金属层刻蚀形成图案化的多个触控电极,所述触控电极设置在所述非显示区域中并相对位于所述黑色矩阵上;其中,所述多个触控电极和所述多条触控连接线一一对应连接,所述触控电极通过设置在所述透明光阻层中的过孔电性连接到对应的触控连接线。

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