[发明专利]光学成像系统有效
申请号: | 201710613302.X | 申请日: | 2017-07-25 |
公开(公告)号: | CN107797226B | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 赖建勋;廖国裕;张伯光;唐乃元;张永明 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:
一第一透镜,具有屈折力;
一第二透镜,具有屈折力,其物侧面为凹面;
一第三透镜,具有屈折力;
一第四透镜,具有屈折力;
一第五透镜,具有屈折力;
一第一成像面,其为一特定垂直于光轴的可见光像平面并且其中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值,第一空间频率为110cycles/mm;以及
一第二成像面,其为一特定垂直于光轴的红外光像平面并且其中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值,该光学成像系统中具有屈折力的透镜个数为五枚,该第一透镜至该第五透镜皆为塑料材质,该第一透镜至该第五透镜中至少一透镜具有正屈折力,该光学成像系统的焦距为f,该光学成像系统的入射瞳直径为HEP,该光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,该第一成像面与该第二成像面间于光轴上的距离为FS,该第一透镜至该第五透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4以及ETP5,前述ETP1至ETP5的总和为SETP,该第一透镜至该第五透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4以及TP5,前述TP1至TP5的总和为STP,其满足下列条件:1.8≤f/HEP≤2.4;69.999deg<HAF≤101deg;0.998≤SETP/STP≤0.999以及0.01mm≤︱FS︱≤0.02mm;
其中,可见光的波长为550nm;红外光的波长为850nm。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第一成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,该第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第五透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≤EIN/ETL<1。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,各该透镜之间均具有一空气间隔。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统的最大垂直可视角度的一半为VHAF,该光学成像系统满足下列公式:VHAF≥10deg。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统于该第一成像面上具有一最大成像高度HOI,该第一透镜物侧面至该第一成像面于光轴上的距离为HOS,其满足下列条件:HOS/HOI≥1.2。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第五透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列公式:0.2≤SETP/EIN<1。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第五透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第一成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,该第五透镜像侧面上与光轴的交点至该第一成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.1。
8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,更包括一光圈,并且于该光圈至该第一成像面于光轴上的距离为InS,该第一透镜物侧面至该第一成像面于光轴上的距离为HOS,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。
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