[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201710612363.4 申请日: 2017-07-25
公开(公告)号: CN107658238B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 株根孝太;柏山真人;高桥保夫;西山耕二;原山千穂 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;G03F7/30
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【说明书】:

发明提供一种基板处理装置,用处理液对基板进行处理,其中,上述基板处理装置包括基板保持部、外杯及内杯,上述内杯包括内杯主体及内杯排出口,上述外杯包括外杯主体、外下杯、第一排液口、第一排气口、第二排液口、第二排气口及分离间隔壁,且上述基板处理装置包括:环状构件,能够升降;驱动部,使上述环状构件升降,使上述内杯主体在回收位置和退避位置之间移动。

技术领域

本发明涉及基板处理装置,尤其涉及回收处理液的杯(Cup)的技术,上述基板处理装置向半导体晶片、液晶显示器用基板、等离子显示器用基板、有机EL(ElectroLuminescence:电致发光)用基板、FED(Field Emission Display:场致发射显示器)用基板、光显示器用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、太阳能电池用基板(下面简称为基板)供给处理液。

背景技术

一直以来,作为这种装置,存在包括基板保持部、旋转驱动机构、第一喷嘴、第二喷嘴、杯体、第一排液管路、第二排液管路、排气管路及可动杯的基板处理装置(例如,参照日本特开2014-75575号公报)。

基板保持部将基板保持为水平姿势。旋转驱动机构使基板保持部以铅垂轴为中心旋转驱动。第一喷嘴供给正型(Positive Tone)显影用的显影液。第二喷嘴供给负型(Negative tone)显影用的显影液。杯体包围被基板保持部保持的基板的周围,回收向基板供给的显影液。第一排液管路及第二排液管路分别与杯体连通连接。可动杯通过在杯体的内部升降,仅向第一排液管路和第二排液管路中任一排液管路引导显影液。

在第一喷嘴供给显影液时,例如,可动杯将显影液导向第一排液管路,在第二喷嘴供给显影液时,可动杯将显影液导向第二排液管路。第一排液管路排出正型显影用的显影液,第二排液管路排出负型显影用的显影液。此时,排气管路排出含有显影液的雾的杯体内的气体。由此,能够防止在第一排液管路及第二排液管路中正型显影用的显影液和负型显影用的显影液混合。在第一喷嘴及第二喷嘴供给显影液时,排气管路排出含有显影液的雾的杯体内的气体。

但是,在具有这种结构的以往的例子的情况下,存在以下问题。

即,以往的装置中排气管路由一个管路构成,因此进行正型显影处理时和负型显影处理时这两种处理时,杯体内的显影液的雾从相同的排气管路排出。因此,可能存在一个排气管路内不同种类的显影液的雾混合的问题。该结果,很难清洁地保持杯内的环境气体,很难以优异品质对基板进行处理。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的,其目的在于提供能够以优异品质对基板进行处理的基板处理装置。

本发明为了实现这样的目的,采用以下的结构。

本发明提供一种基板处理装置,用处理液对基板进行处理,其中,上述基板处理装置包括以下的构件:基板保持部,其将基板保持为水平姿势;旋转驱动部,其使上述基板保持部以铅垂轴为中心旋转;第一处理液供给部,其向被上述基板保持部保持的基板供给第一处理液;第二处理液供给部,其向被上述基板保持部保持的基板供给第二处理液;外杯,其包围上述基板保持部的侧方;以及内杯,其配置在上述基板保持部和上述外杯之间,上述内杯包括:内杯主体,其俯视时呈环状:以及内杯排出口,其形成于上述内杯主体的下部,向下方排出上述内杯主体内的第一处理液及气体,上述外杯包括:外杯主体,其俯视时呈环状;外下杯,其构成上述外杯主体的底部;第一排液口,其形成于上述外下杯的底面,用于排出从上述内杯排出口排出的上述第一处理液;第一排气口,其形成于上述外下杯,用于排出从上述内杯排出口排出的气体;第二排液口,其形成于上述外下杯的底面,排出上述外杯主体内的第二处理液;第二排气口,其形成于上述外下杯,用于排出上述外杯主体内的气体;以及分离间隔壁,其俯视时呈环状地立设在上述外下杯的底面,分离上述第一排液口和上述第二排液口,上述基板处理装置包括:环状构件,其俯视时呈环状,能够沿上述外杯主体内的外周面升降,以不堵塞上述内杯排出口的方式连结于上述内杯主体;以及驱动部,其使上述环状构件升降,使上述内杯主体在上述内杯回收处理液的回收位置和上述外杯回收处理液的退避位置之间移动。

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