[发明专利]易洁陶瓷砖的制备方法

权利要求书

1.一种易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(a)制备坯体层；

(b)在坯体层上布施面釉，形成面釉层；

(c)在面釉层上印花，形成印花层；

(d)在印花层上布施易洁保护釉形成易洁保护干粒层；所述易洁保护釉包括如下质量份数的组分：易洁保护颗粒90～110份、印油230～270份和透明釉20～40份；

其中，所述易洁保护颗粒主要由以下质量份数的组分构成：SiO₂60～70份、Al₂O₃ 15～25份、Fe₂O₃ 0.1～0.3份、Ti₂O 15～25份、Na₂O 4～8份、K₂O 2～6份、MgO 0.05～0.3份、CaO0.5～3份和烧失量0.05～0.3份。

2.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a)包括以下步骤：

(a1)坯用原料经配料、球磨后，得到浆料；

(a2)所述浆料经除铁、过筛、陈腐、喷雾制粉后再过筛，得到坯料；

(a3)采用模具通过压机对所述坯料压制成型，得到所述坯体层。

3.根据权利要求2所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a1)中，所述球磨为湿法球磨，球磨的时间为11～12小时，浆料的细度为过250目筛余为1％～3％。

4.根据权利要求2所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a2)中，所述坯料的颗粒级配为：20目以上为0～1.5％，－20～+40目为30％～60％，－20～+60目为72％～88％，100目以下为0～6％，余下为－60～+100目。

5.根据权利要求2所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a3)中，所述模具为凹凸模具，所述坯体层为具有凹凸表面的坯体层。

6.根据权利要求1～5任一项所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(a)与步骤(b)之间，还包括将所述坯体层放入干燥窑进行干燥的步骤。

7.根据权利要求6所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，干燥的温度为100～160℃，干燥时间为50～70min。

8.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(b)中，采用淋釉的方式在坯体层上布施面釉，面釉的细度为过325目筛余为1％～1.5％，面釉比重1.75～1.85g/cm³，流速30～35秒；钟罩淋釉，面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为40～50g。

9.根据权利要求8所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，对面釉原料进行湿法球磨，球磨的时间为4～5小时。

10.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(c)中，采用喷墨印刷设备进行装饰印花，得到所述印花层。

11.根据权利要求1所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述步骤(d)中，采用直线淋釉的方式在印花层上布施易洁保护釉，施釉的流速为45～55秒，比重为1.2～1.5g/cm³；面积为330mm×330mm的托盘，施釉量为32～38g。

12.根据权利要求1或11所述的易洁陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述易洁保护颗粒的颗粒级配为：80目～120目为50％～60％，120～200目为20％～30％，其余为200目以下。