[发明专利]多孔框架材料在面膜中的应用

权利要求书

1.多孔框架材料在面膜中的应用，其特征在于，制备面膜的原料中包括多孔框架材料，其作为基质应用于清洁面膜，或作为抗菌防腐剂应用于防过敏面膜，或作为能够缓释活性成分的载体负载活性成分形成复合物应用于功能性面膜和睡眠面膜；

多孔框架材料包括金属-有机框架材料(MOFs)和共价有机框架材料(COFs)；应用于清洁面膜时，多孔框架材料选自：MIL-101-CH₃、MIL-101-NO₂、MIL-101-NH₂、MIL-53、COF-LZU1、PI-COF-1、PCN-333；应用于防过敏面膜时，多孔框架材料选自：ZIF-11、Ag₅(PYDC)₂(OH)、Ag₂(OIPA)(H₂O)·(H₃O)、ZIF-8、ZIF-7、ZIF-100；应用于功能面膜时，多孔框架材料选自：MIL-101-NH₂、MIL-88-4CH₃、MIL-101、Tb-mesoMOF、PCN-333、MIL-53。

2.根据权利要求1所述的多孔框架材料在面膜中的应用，其中多孔框架材料的安全性与传统面膜基质相当，或优于传统面膜基质，其中传统面膜基质为火山泥、高岭土或硅藻土。

3.根据权利要求1所述的多孔框架材料在面膜中的应用，其特征在于，多孔框架材料的比表面积大于1700m²/g、孔隙率大于0.5cm²/g、孔道直径大于时，用于清洁面膜；多孔框架材料的有机配体含有-OH、-NH₂或-OCH₃化学活性基团或含有能与客体分子进行π-π共轭作用的基团，或多孔框架材料具有多面体笼构筑的结构，具有大的空腔和较小的窗口时，用于功能性面膜。

4.根据权利要求3所述的多孔框架材料在面膜中的应用，其特征在于，基于多孔框架材料MOFs和COFs结构的明确性和灵活性，通过在原子水平上的修饰和改性，得到一系列不同性质的结构，从而实现对不同肤质、不同需求人群的面膜的个性化定制。

5.权利要求1所述的多孔框架材料在面膜中的应用，其特征在于，清洁面膜原料由以下质量比的组分构成：多孔框架材料15-30％、甘油6-10％、丁二醇2-4％、烷基糖苷1-3％、黄原胶1-3％、去离子水加至100％；功能性面膜原料由以下质量比的组分构成：多孔框架材料负载活性成分形成的复合物为12-25％，甘油5-10％，丁二醇2-4％，烷基糖苷1-3％，黄原胶1-2％，薄荷醇1-2％，去离子水加至100％。

6.根据权利要求5所述的多孔框架材料在面膜中的应用，其特征在于，应用于功能面膜时，活性成分选自：原花青素、维生素、尿囊素、辅酶Q10、丝瓜苷、红景天苷、甘草酚、桑皮素。