[发明专利]微波处理装置、方法以及机器可读存储介质

权利要求书

1.一种微波处理装置，其特征在于，所述微波处理装置包括：

微波腔体，被配置成容纳目标物体；

第一微波源和第二微波源，被配置成产生微波，其中所述第一微波源和所述第二微波源中至少一者能够产生可变频率和相位的微波；

第一波导，被配置成将所述第一微波源产生的微波耦合到所述微波腔体中；

第二波导，被配置成将所述第二微波源产生的微波耦合到所述微波腔体中；

检测单元，被配置成针对微波的频率相位组检测所述微波腔体中微波反射功率；以及

控制单元，与所述第一微波源、所述第二微波源和所述检测单元耦合，被配置成控制所述第一微波源和所述第二微波源输出不同的功率，以及根据所述微波反射功率调整所述第一微波源和所述第二微波源输出的功率，

其中，当针对预设频率相位组集合中部分频率相位组检测到的微波反射功率大于反射功率阈值，并且该部分频率相位组在所述预设频率相位组集合中的比例大于预设值时，降低所述第一微波源和所述第二微波源中输出功率较大者的功率，和/或

当针对预设频率相位组集合中部分频率相位组检测到的微波反射功率小于反射功率阈值，并且该部分频率相位组在所述预设频率相位组集合中的比例大于预设值时，针对该部分频率相位组提高所述第一微波源和所述第二微波源中输出功率较小者的功率。

2.根据权利要求1所述的微波处理装置，其特征在于，所述第一微波源和所述第二微波源中至少一者为半导体微波源。

3.根据权利要求2所述的微波处理装置，其特征在于，所述反射功率阈值与所述半导体微波源的特性相关联。

4.根据权利要求2所述的微波处理装置，其特征在于，所述微波处理装置包括环形器，以及所述反射功率阈值与所述环形器的功率相关联。

5.根据权利要求2所述的微波处理装置，其特征在于，所述微波处理装置包括功放电路，以及所述反射功率阈值与所述功放电路中元件的功率相关联。

6.根据权利要求2所述的微波处理装置，其特征在于，所述频率相位组中频率的变化范围为2.4GHz～2.5GHz，以及所述频率相位组中相位的变化范围为﹣180°～+180°。

7.根据权利要求2所述的微波处理装置，其特征在于，所述检测单元，被配置成周期性地针对微波的频率相位组检测所述微波腔体中微波反射功率。

8.一种用于微波处理装置实施的方法，适于在根据权利要求1-7中任一项所述的微波处理装置中实施，其特征在于，该方法包括：

通过第一微波源和第二微波源产生具有不同功率的微波，其中所述第一微波源和所述第二微波源中至少一者能够产生可变频率和相位的微波；

针对微波的频率相位组检测所述微波腔体中微波反射功率；以及

根据所述微波反射功率调整所述第一微波源和所述第二微波源输出的功率。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，该方法包括，当针对预设频率相位组集合中部分频率相位组检测到的微波反射功率大于反射功率阈值，并且该部分频率相位组在所述预设频率相位组集合中的比例大于预设值时，降低所述第一微波源和所述第二微波源中输出功率较大者的功率。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，该方法包括，当针对预设频率相位组集合中部分频率相位组检测到的微波反射功率小于反射功率阈值，并且该部分频率相位组在所述预设频率相位组集合中的比例大于预设值时，针对该部分频率相位组提高所述第一微波源和所述第二微波源中输出功率较小者的功率。

11.根据权利要求8-10中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一微波源和所述第二微波源中至少一者为半导体微波源。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述反射功率阈值与所述半导体微波源的特性相关联。