[发明专利]一种母板曝光方法

说明书

本发明提供一种母板曝光方法，其包括以下步骤：将待曝光的母板放置于掩膜板下方；通过所述掩膜板对母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；移除掩膜板；以及，使用光源对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射。本发明的母板曝光方法，通过对行间隔区和列间隔区的光阻层进行照射，从而可以在显影时抑制行间隔区和列间隔区上的显影液扩散至曝光区边缘处，改善母板曝光区边缘处的过显影现象，进而提高显示面板的显示效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种母板曝光方法。

背景技术

目前，在显示基板的制作过程中，包括对母板上的光阻层进行曝光的工艺。例如，当在一块母板上制作四块显示基板时，通过掩膜板在四块显示基板对应位置上形成曝光区，然而，相邻行曝光区和相邻列曝光区之间的光阻层由于掩膜板的遮挡，存在不透光区域，这样容易造成每个曝光区边缘处显影不均。

具体地，在显影液均匀的铺满母板表面与经曝光的光阻层反应时，曝光区内的光阻层与显影液反应，其浓度降低明显，而位于相邻行曝光区和相邻列曝光区之间的光阻层与显影液几乎不反应，其浓度基本不变，从而与曝光区边缘的显影液浓度形成浓度差，由于扩散效应，造成曝光区边缘出现过显影现象，致使曝光区边缘处的线宽偏小，线距偏大。

故，有必要提供一种母板曝光方法，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种母板曝光方法，用于改善母板曝光区边缘处的过显影现象，提高显示面板的显示效果。

为达到上述目的，本发明提供的母板曝光方法采用如下技术方案：

一种母板曝光方法，其包括：

将待曝光的母板放置于掩膜板下方；

通过所述掩膜板对所述母板的光阻层进行曝光，以形成多个呈矩阵排列的曝光区，其中，相邻行曝光区之间具有行间隔区，相邻列曝光区之间具有列间隔区；

移除所述掩膜板；以及，

使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射。

在本发明的母板曝光方法中，所述光源包括至少一个第一条形光源和至少一个第二条形光源，其中，所述第一条形光源的形状与任一所述行间隔区的形状相匹配，所述第二条形光源的形状与任一所述列间隔区的形状相匹配。

在本发明的母板曝光方法中，多个所述第一条形光源和多个所述第二条形光源拼接而成的图案与多个所述行间隔区和多个所述列间隔区拼接而成的图案相同。

在本发明的母板曝光方法中，所述使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射的步骤，包括：

使用多个所述第一条形光源和多个所述第二条形光源拼接而成的图案一次性对所述母板的光阻层进行照射。

在本发明的母板曝光方法中，所述使用光源对所述行间隔区和所述列间隔区的光阻层进行照射的步骤，包括：

使用一个所述第一条形光源分别对多个所述行间隔区的光阻层进行照射；以及，

使用一个所述第二条形光源对多个所述列间隔区的光阻层进行照射。

在本发明的母板曝光方法中，所述第一条形光源可沿行方向移动，所述第二条形光源可沿列方向移动。

在本发明的母板曝光方法中，所述行间隔区的宽度和所述列间隔区的宽度介于0-8毫米之间。

在本发明的母板曝光方法中，所述行间隔区的宽度小于相邻行曝光区之间的间距，所述列间隔的宽度小于相邻列曝光区之间的间距。

在本发明的母板曝光方法中，所述光源为紫外线光源或激光光源。