[发明专利]光罩及基于该光罩的曝光方法

说明书

本发明公开一种光罩及基于该光罩的曝光方法。所述光罩在其显示开口区设置有显示屏，所述显示屏用于根据接收到的电驱动信号控制显示开口区的光透过率。基于此，本发明能够避免同一图案区域在多次光罩制程中被多次曝光，有利于大尺寸图案的制造。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及曝光技术领域，尤其涉及一种光罩(Mask)及基于该光罩的曝光方法。

背景技术

当前，为了在较大面积的基板上形成预定图案，需要进行多次光罩制程。以图1所示的两次光罩制程为例，在第一次光罩制程后，基板10上形成有与光罩11的第一显示开口区111和第二显示开口区112相对应的图案101、102，然后移动光罩11。为了满足图案设计需求，需要将第二显示开口区112与基板10的预定区域103对齐，而此时光罩11的第一显示开口区111与图案102的所在区域相重叠，这无疑会使得图案102的所在区域在第二次光罩制程中被再次曝光。这种同一图案区域的多次曝光现象容易导致最终所制得的图案不符合生产要求，例如该区域的图案厚度较小，从而不利于大尺寸图案的制造。

发明内容

鉴于此，本发明提供一种光罩及基于该光罩的曝光方法，能够避免同一图案区域被多次曝光，有利于大尺寸图案的制造。

本发明一实施例的光罩，包括显示开口区和遮挡区，所述光罩在显示开口区设置有显示屏，所述显示屏用于根据接收到的电驱动信号控制所述显示开口区的光透过率。

本发明一实施例的曝光方法，包括：

提供一光罩，所述光罩的显示开口区设置有显示屏；

基于光罩进行光罩制程；

移动光罩，且所述光罩在移动前后具有重叠区域，所述显示开口区位于所述重叠区域内；

对显示屏施加电驱动信号，以使显示屏根据接收到的电驱动信号控制所述显示开口区的光透过率为零；

基于移动后的光罩继续进行光罩制程。

有益效果：本发明设计在光罩的显示开口区设置显示屏，通过显示屏控制该显示开口区的光透过率，能够避免同一图案区域在多次光罩制程中被多次曝光，有利于大尺寸图案的制造。

附图说明

图1是基于现有技术的光罩进行两次光罩制程的场景示意图；

图2是本发明的光罩一实施例的结构示意图；

图3是基于图2所示光罩进行两次光罩制程的场景示意图；

图4是本发明的曝光方法一实施例的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明所提供的各个示例性的实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。在不冲突的情况下，下述各个实施例及其技术特征可以相互组合。

图2是本发明一实施例的光罩的结构示意图。如图2所示，本实施例的光罩20可以为板体结构，其包括两个显示开口区以及除两个显示开口区之外的遮挡区22，所述两个显示开口区分别为上下排布的第一显示开口区211和第二显示开口区212。在光罩制程中，遮挡区22用于阻挡光透过，显示开口区允许光透过，以对位于其正下方的区域进行曝光，从而便于后续在该曝光区域形成预定图案。