[发明专利]一种工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置

说明书

技术领域

本发明涉及的是一种工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置，尤其涉及化学水域沉积时温度加热的方法，属于化学水域沉积技术领域。

背景技术

化学水浴沉积(CBD)应用颇为广泛，尤其是在制备半导体薄膜，但现有用于化学水浴沉积制备半导体薄膜的设备、采用的加热方法比较单一，其中加热速度慢是最大的问题。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一种结构简单，使用方便、可靠，加热快，能提升能量转换效率，使小功率把被加热物加热到很高温度成为可能的工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置。

本发明的目的是通过如下技术方案来完成的，一种工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置，它包括一配套用于反应设备的加热系统；所述的反应设备主要由反应槽和置于反应槽上部的反应槽上盖组成，所述的反应槽上盖通过内设于反应槽上部的反应槽托板安置在反应槽上部；

所述加热系统包含若干数量的加热板、吹扫气体装置、阻挡条，其中加热板固定在反应槽上盖的下表面并被置于反应槽内，以便均匀加热衬底和反应液；所述的吹扫气体装置设置在加热板周边，以便加热均匀；所述的阻挡条有多条并设置在反应槽内，该阻挡条可加快局部水流速度，同时可以对药液进行分层。

作为优选：所述的反应设备还配置有一由反应液混药箱、反应液抽水泵和循环管道构成的药液循环系统；所述的反应液混药箱经反应液抽水泵、通过循环管道连通于反应槽中；

所述的加热板由发热装置和安装外壳固定连接而成；所述加热板周边布置的吹扫气体装置由若干均匀布置的、分别连通外接压力气源的喷口构成。

作为优选：所述的反应槽入口高度高于出口高度，所述反应槽深度为0.5-5cm；所述反应槽内安装的阻挡条布置成与反应药液垂直流向之间的夹角为45度至90度；所述加热板的发热装置包括红外线加热板、铠装加热板、灯管加热板中的任一一种。

作为优选：所述的阻挡条材质为金属、石墨、合金的一种；所述反应槽的宽度比衬底宽度窄，且所述衬底搭在反应槽两侧、由衬底正面与反应液接触进行单层镀膜；所述加热板与衬底上表面距离为10-500mm。

本发明与现有技术相比，具有以下优点和效果：本发明为非接触式加热，可有效避免药液污染；另一方面，通过吹扫气体装置，可以使热量分布更均匀以满足反应药液均匀加热，保证镀膜速率的一致性；具有结构简单，使用方便、可靠，加热快，能提升能量转换效率，使小功率把被加热物加热到很高温度成为可能等特点。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明所述加热系统安装在反应槽上盖的平面结构示意图。

图3是本发明所述反应槽内阻挡条的布置结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作详细的介绍：图1-3所示，本发明所述的一种工业化化学水浴法沉积薄膜的反应药液加热装置，它包括一配套用于反应设备1的加热系统2；所述的反应设备1主要由反应槽102和置于反应槽102上部的反应槽上盖101组成，所述的反应槽上盖通过内设于反应槽上部的反应槽托板103安置在反应槽102上部；

所述加热系统包含若干数量的加热板202、吹扫气体装置203、阻挡条204，其中加热板202固定在反应槽上盖的下表面并被置于反应槽内，所述的吹扫气体装置设置在加热板202周边；所述的阻挡条204有多条并设置在反应槽内。

图中所示，所述的反应设备1还配置有一由反应液混药箱301、反应液抽水泵302和循环管道303构成的药液循环系统3；所述的反应液混药箱301经反应液抽水泵302、通过循环管道303连通于反应槽102中；

所述的加热板202由发热装置和安装外壳固定连接而成；所述加热板202周边布置的吹扫气体装置203由若干均匀布置的、分别连通外接压力气源的喷口构成。

本发明所述的反应槽102入口高度高于出口高度，所述反应槽102深度为0.5-5cm；所述反应槽102内安装的阻挡条204布置成与反应药液垂直流向之间的夹角为45度至90度；所述加热板202的发热装置包括红外线加热板、铠装加热板、灯管加热板中的任一一种。

本发明所述的阻挡条201材质为金属、石墨、合金的一种；所述反应槽102的宽度比衬底宽度窄，且所述衬底搭在反应槽两侧、由衬底正面与反应液接触进行单层镀膜；所述加热板202与衬底上表面距离为10-500mm。

下面通过实施例对铜铟镓硒薄膜太阳能电池制备缓冲层硫化锌（ZnS）时，对药业进行比例能量加热装升温装置作进一步阐明。