[发明专利]光掩模及显示装置的制造方法、光掩模基板的检查方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及适合于半导体装置或显示装置的制造的光掩模，特别涉及在制造以液晶显示装置或有机EL(Electroluminescence，电致发光)显示装置等为代表的FPD(flat panel display)等的显示装置时适合使用的光掩模的制造方法、描画装置、显示装置的制造方法、光掩模基板的检查方法、及光掩模基板的检查装置。

背景技术

在光掩模的领域中，期望提高根据所设计的造型而形成于光掩模基板的转印用图案的形成精度，进一步提高所形成的转印用图案的检查精度。

在专利文献1中记载了这样的光掩模的制造方法等，在使用形成有转印用图案的光掩模在被转印体上转印图案时，能够提高该图案的坐标精度。并且，在专利文献1中记载了这样的方法，特别是在光掩模的制造工序中将转印用图案的设计数据直接用于描画数据进行描画时，描画时的膜面(图案形成面)的形状与曝光时不同，因而得到校正后的描画数据，以便消除不能在被转印体上形成所设计的图案的问题。

【现有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2010－134433号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在显示装置的制造中往往是利用具有基于想要得到的器件的设计的转印用图案的光掩模。作为器件，对于以智能电话或平板终端为代表的液晶显示装置和有机EL显示装置，要求明亮节能、动作速度快、而且析像度较高的美丽图像。因此，对于被用于上述用途的光掩模，新的技术课题对于本发明者们就更加突显了。

为了清晰地表现微细的图像，需要提高像素密度，现在又产生了进一步提高像素密度的需求。因此，光掩模的转印用图案的造型存在微细化、高密度化的倾向。然而，包括显示用器件在内的众多电子器件是通过形成有微细图案的多个层(Layer)的层叠而立体地形成的。因此，这多个层中的坐标精度的提高以及彼此坐标的整合极为重要。即，如果各个层的图案坐标精度不能满足所有规定的水准，将引发在所完成的器件中不产生适当的动作等问题。因此，存在对各个层要求的坐标偏差的允许范围日益减小的倾向。即，存在对为制造各个层而使用的光掩模的转印用图案所要求的坐标精度的要求日益提高的倾向。

在光掩模的制造中使用在透明基板的第1主面(以下也称为“膜面”)形成有薄膜和抗蚀剂膜的光掩模基板。另外，在光掩模的制造工序中对透明基板上的薄膜进行图案形成，作为具有期望的形状的转印用图案。

在本说明书中，“光掩模基板”是指以下列举的透明基板、包括光掩模坯体、带抗蚀剂光掩模坯体、光掩模中间体或者光掩模的基板。

(a)用于形成光掩模的透明基板。

(b)在上述透明基板上形成有薄膜(用于通过图案加工来形成转印用图案的光学膜，且作为遮光膜或半透光膜等发挥作用的膜)的光掩模坯体。

(c)在上述薄膜上形成有抗蚀剂膜的带抗蚀剂光掩模坯体。

(d)已经具有薄膜图案，进一步进行图案加工用的或者进一步层叠薄膜图案用的光掩模中间体。

(e)所完成的光掩模。

另外，在本说明书中，有时将光掩模基板简称为“基板”。

在光掩模的制造工序中，例如在使用描画装置在带抗蚀剂光掩模坯体即光掩模基板上描画图案时，将光掩模基板载置在水平的载台上。此时，使光掩模基板的膜面朝上。并且，对构成该膜面的抗蚀剂膜照射激光光束等能量束，而且使照射位置变化，由此描画期望的图案。

但是，在直接使用期望的转印用图案的设计数据作为描画数据时，有时会产生问题。其理由是如图11(a)、(b)所示，支撑光掩模基板51的描画装置的载台50的表面未必是理想的平面，并且光掩模基板51也未必仅具有理想的平面。载台50的表面及光掩模基板51的两个主面虽然都是精密加工的，但是在以面的平坦度的观点观察时，存在产生微小的凹凸的情况。另外，存在产生描画装置的载台50的表面的凹凸、由于载台50的表面和与其接触的光掩模基板51的第2主面(以下也称为“背面”)之间夹入异物而导致的基板的挠曲、光掩模基板51的背面的凹凸、光掩模基板51的厚度的偏差等情况。在这种情况下，如图11(b)所示，被载置在载台50上的光掩模基板51的上表面(即膜面)的形状形成为具有以上这些变形因素累积而成的凹凸。并且，描画头52按照设计描画数据W1对该状态的光掩模基板51进行图案描画。另外，在图11中夸张地描画出光掩模基板和载台的变形。这对于其它附图也一样。