[发明专利]介质处理装置及系统

权利要求书

1.一种介质处理装置，其特征在于，包括转筒、卷轴、输送带和驱动电机，所述输送带的两端分别卷绕于所述转筒和所述卷轴，所述卷轴和所述驱动电机电连接，所述驱动电机用于驱动所述卷轴转动并带动所述输送带跟随所述卷轴运动，

其中，所述输送带由两层透光薄膜贴合而成，所述输送带的两层透光薄膜之间间隔设置有荧光区，相邻的两个所述荧光区之间的间隔大于或等于预设介质的长度，

所述荧光区内涂有光致储能的荧光材料；

所述荧光材料包括多种不同颜色；

所述转筒包括沿所述转筒的轴向间隔相对设置的第一旋转部和第二旋转部，所述输送带沿所述转筒的轴向的两侧分别卷绕于所述第一旋转部和所述第二旋转部；所述第一旋转部和所述第二旋转部的间隔大于或等于所述预设介质的长度；所述荧光区沿所述转筒的轴向间隔设置于所述输送带的两侧，位于靠近所述第一旋转部一侧的荧光区沿轴向的宽度不大于所述第一旋转部沿轴向的宽度，位于靠近所述第二旋转部一侧的荧光区沿轴向的宽度不大于所述第二旋转部沿轴向的宽度。

2.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，所述荧光区沿所述输送带的运动方向间隔设置于所述输送带上。

3.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，所述荧光材料能够发出至少一种可见光波段的荧光。

4.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，所述荧光区的形状为文字、图形或花纹。

5.根据权利要求1所述的介质处理装置，其特征在于，位于靠近所述第一旋转部一侧的荧光区的形状和位于靠近所述第二旋转部一侧的荧光区的形状互不相同。

6.一种介质处理系统，其特征在于，包括如权利要求1至5任一项所述的介质处理装置及检测模块，所述检测模块包括检测光源和光探测器，所述检测光源和所述光探测器分别设置于所述输送带的两侧，

所述检测光源用于向位于所述输送带一侧的预设介质发射检测光，所述光探测器用于接收透过所述预设介质和所述输送带的检测光。