[发明专利]一种轻质砖砌墙工艺

权利要求书

1.一种轻质砖砌墙工艺，其特征在于，包括如下步骤：

S1，将砂浆涂抹于轻质砖的表面并将轻质砖砌筑，形成轻质砖墙面；

S2，于步骤S1中获得的轻质砖墙面的表面涂覆界面剂，再附上防裂加强网，在防裂加强网表面涂覆有找平层，形成平整墙面层；

S3，在步骤S2中获得的平整墙面层上均匀涂覆有耐水层，形成耐水墙面层；

S4，于步骤S3中获得的耐水墙面层表面上涂覆涂料，获得砌好的轻质砖墙体；

所述步骤S3中的耐水层包括如下重量份数的组分：

丙烯酸乳液58-72份；

甲基丙烯酸月桂酯3-5份；

氧化锌15-18份；

所述步骤S4中的涂料包括如下重量份数的组分：

丙烯酸酯乳液28-35份；

苯丙乳液22-30份；

聚丙烯酸酯3-6份；

甲基纤维素8-12份；

纳米二氧化硅5-9份；

分散剂12-16份；

聚硅氧烷消泡剂5-8份；

防腐剂0.1-0.3份；

去离子水10-13份；

所述分散剂包括纳米材料分散剂TAZ-ND1、纳米材料分散剂TDL-ND1中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的一种轻质砖砌墙工艺，其特征在于，所述步骤S4中的涂料包括如下重量份数的组分：

丙烯酸酯乳液28-32份；

苯丙乳液25-30份；

聚丙烯酸酯3-5份；

甲基纤维素10-12份；

纳米二氧化硅7-9份；

分散剂13-16份；

聚硅氧烷消泡剂5-7份；

防腐剂0.1-0.2份；

去离子水11-13份。

3.根据权利要求1或2所述的一种轻质砖砌墙工艺，其特征在于，所述分散剂选取重量份数比为1:1.5-1.9的纳米材料分散剂TAZ-ND1、纳米材料分散剂TDL-ND1。

4.根据权利要求1所述的一种轻质砖砌墙工艺，其特征在于，所述找平层涂覆3-4层，所述找平层的厚度为10-15mm。

5.根据权利要求1所述的一种轻质砖砌墙工艺，其特征在于，所述耐水层的厚度为1.8-2.5mm。

6.根据权利要求1所述的一种轻质砖砌墙工艺，其特征在于，所述涂料涂覆2-3层，每层涂料的厚度为0.8-1.1mm。