[发明专利]一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液

权利要求书

1.一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液，其特征在于：包含抛光颗粒、氧化剂、腐蚀抑制剂、pH调节剂及水性介质；

其中，抛光颗粒重量百分含量为0.1wt-50wt％，优选5wt-40wt％；

氧化剂重量百分含量为0.1wt-10wt％，优选0.5wt-5wt％；

腐蚀抑制剂重量百分含量为0.001wt-2wt％，优选0.001wt-1wt％。

2.根据权利要求1所述的一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液，其特征在于：所述的抛光颗粒为胶体二氧化硅，其粒径范围为5-200nm，优选10-130nm；且所述抛光颗粒在抛光过程中，可通过抛光材料-抛光颗粒-抛光垫的接触，实现对抛光材料的机械去除；

抛光颗粒通过自身硬度、表面化学活性以及表面带电情况，在抛光过程中起到增强机械摩擦、颗粒润滑以及参与表面反应的功能。

3.根据权利要求1所述的一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液，其特征在于：氧化剂选自双氧水、过氧乙酸以及硝酸铁的一种；氧化剂通过氧化修饰抛光材料表面，在CMP工艺尤其是金属抛光过程中起着重要的作用；本发明所筛选的氧化剂能有效提高不锈钢抛光速度，与此同时能保证一定的抛光后表面质量。

4.根据权利要求1所述的一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液，其特征在于：腐蚀抑制剂选自环糊精、羟丙基纤维素(Mw 3万)、二苯-18-皇冠醚-6、可溶性淀粉，优选环糊精和二苯-18-皇冠醚-6；其中，二苯-18-皇冠醚-6及二苯-18-皇冠醚-6属于醚类腐蚀抑制剂；

金属抛光中最常见的腐蚀抑制剂为苯并三氮唑(BTA)，在不锈钢抛光中BTA会明显降低抛光速度；而且因其在不锈钢表面形成的钝化膜不够致密，抛光后的不锈钢表面料纹和橘皮缺陷仍未得到明显改善。

5.根据权利要求1所述的一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液，其特征在于：pH调节剂选自NaOH、KOH、氨水、三乙醇胺、硝酸以及磷酸；所述pH调节剂的pH值范围为2到11，优选9到11。

6.根据权利要求1所述的一种可有效应用于不锈钢衬底化学机械抛光工艺的抛光液，其特征在于：尤其适用于不锈钢304和316的化学机械抛光工艺。