[发明专利]一种硼化钽生物涂层及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201710574080.5 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN107583107B | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 张侃;秦彦国;刘贯聪;李瑞延;文懋;郑伟涛 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | A61L27/30 | 分类号： | A61L27/30;A61L27/50;C23C14/06;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 黄欢娣;邱启旺 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 硼化钽 生物 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种硼化钽生物涂层，其特征在于，所述生物涂层包含富硼结构的硼化钽，所述钽和硼的摩尔比为3～5:6；
所述硼化钽生物涂层的制备方法，基于多靶射频磁控共溅射方法实现，溅射参数为：钽靶材的溅射功率为30-90W，硼靶材的溅射功率范围为200-400W，溅射总压强为0.67-1.2Pa，沉积温度为室温～200℃，靶基距为60-100mm，溅射基底施加的电压为0至-300V，溅射时间为90-180min后，即在溅射基底表面获得硼化钽生物涂层。
2.根据权利要求1所述的硼化钽生物涂层，其特征在于，所述富硼结构的硼化钽结构式为Ta3B4。
3.一种权利要求1所述硼化钽生物涂层的制备方法，该方法基于多靶射频磁控共溅射方法实现，其特征在于，溅射参数为：钽靶材的溅射功率为30-90W，硼靶材的溅射功率范围为200-400W，溅射总压强为0.67-1.2Pa，沉积温度为室温～200℃，靶基距为60-100mm，溅射基底施加的电压为0至-300V，溅射时间为90-180min后，即在溅射基底表面获得硼化钽生物涂层。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，钽靶材的功率为30-60W，硼靶材功率范围为200-350W，溅射总压强为0.8-1.0Pa，溅射基底施加的电压为-40～-160V。
5.一种权利要求1所述硼化钽生物涂层在医用植入材料中的应用，其特征在于，该应用为：用于对医用植入材料进行表面改性。
6.根据权利要求5所述的应用，其特征在于，所述硼化钽生物涂层和医用植入材料之间具有钽金属过渡层，钽金属过渡层中厚度为100-150nm。
7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，所述钽金属过渡层通过磁控溅射方法溅射在医用植入材料表面，溅射条件为：在氩气气氛下，钽靶材的溅射功率为200-300W，靶基距为60-100mm。
8.根据权利要求5所述的应用，其特征在于，所述硼化钽生物涂层的厚度为500-2000nm。
9.根据权利要求5所述的应用，其特征在于，所述医用植入材料为TiAlV、TiAlNb、TiAlZr、TiNbZr、TiAlTa、TiNbTa、TiNbZrTa合金中的一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉林大学，未经吉林大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710574080.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
