[发明专利]一种黑硅制绒清洗机及其工艺有效
申请号: | 201710572759.0 | 申请日: | 2017-07-14 |
公开(公告)号: | CN107221581B | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 邵玉林 | 申请(专利权)人: | 无锡琨圣科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 黑硅制绒 清洗 及其 工艺 | ||
本发明公开了一种黑硅制绒清洗机及其工艺,由机架、机械手板块、硅片花篮、槽体板块、冷热循环用液板块、控制台、上料台和下料台组成,所述机械手板块运载硅片花篮横向偏移和纵向升降,使硅片花篮浸入槽体板块中,所述槽体板块首尾连接冷热循环用液板块,所述控制台位于机架中部且控制机械手板块、槽体板块、冷热循环用液板块、上料台和下料台的工作状态,所述槽体板块包括32个工位槽,制成绒面反射率低,硅片表面清洗充分,实现了制绒清洗工序的自动化,碎片率较低,本发明适用于黑硅制绒清洗机及其工艺。
技术领域
本发明涉及一种黑硅制绒清洗机及其工艺领域,特别涉及一种黑硅制绒清洗机及其工艺。
背景技术
太阳能电池硅片的表面处理的目的在于清楚表面油污和金属杂质形成起伏不平的绒面,增加硅片对太阳光的吸收,硅片表面绒面的成型与清洁程度直接影响着硅片的光反射率。
目前通常采用制绒清洗机实现硅片的制绒清洗工序,制绒清洗机一般分为手动洗槽式、半自动式和全自动式,现有技术的制绒清洗机通常具有以下弊端:
1. 脏污、指纹来源:脱胶不良、切割后未及时清洗,清洗剂残留、包装过程胶带、裸手触片等;线痕源于切割:单晶、多线、硬点(尽多晶有);划伤;硅片间摩擦、擦片摩擦等;
2. 槽体清洁:久未洗槽,维修后引入脏污未及时清除;温度均匀:鼓泡不均匀,加热器加热故障,探温热电偶损坏;溶液均匀:搅拌不充分,鼓泡或加热故障;
3. 清洗本身导致表面产生差异;硅酸钠残留、挂碱印,硅片清洗后未及时清洗,风干导致局部脏污。
故以上问题亟待解决。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足,本发明提供了一种黑硅制绒清洗机及其工艺,制成绒面反射率低,硅片表面清洗充分,实现了制绒清洗工序的自动化,碎片率较低。
为达到上述目的,本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种黑硅制绒清洗机,由机架、机械手板块、硅片花篮、槽体板块、冷热循环用液板块、控制台、上料台和下料台组成,所述机械手板块运载硅片花篮横向偏移和纵向升降,使硅片花篮浸入槽体板块中,所述槽体板块首尾连接冷热循环用液板块,所述控制台位于机架中部且控制机械手板块、槽体板块、冷热循环用液板块、上料台和下料台的工作状态,所述槽体板块包括32个工位槽,32个所述工位槽依次为碱洗槽A、碱洗槽B、漂洗槽、硝酸洗槽、漂洗槽、添银酸洗槽A、添银酸洗槽B、漂洗槽、氢氟酸洗槽A、氢氟酸洗槽B、漂洗槽、初步去银洗槽A、漂洗槽、初步去银洗槽B、漂洗槽、纯氢氟酸洗槽、酸洗连体槽、漂洗槽、纯碱洗槽、漂洗槽、二次去银洗槽A、漂洗槽、二次去银洗槽B、漂洗槽、双酸洗槽、漂洗槽、漂洗槽、预脱水槽、烘干槽A、烘干槽B、烘干槽C和烘干槽D,所述碱洗槽A和碱洗槽B均装有氢氧化钾和无醇辅助剂,所述添银酸洗槽A和添银酸洗槽B均装有硝酸银和氢氟酸,所述初步去银洗槽A和初步去银洗槽B中均装有氨水和过氧化氢,所述酸洗连体槽内装有氢氟酸和硝酸,所述二次去银洗槽A内装有氨水、氢氧化钾和过氧化氢,所述二次去银洗槽B内装有氨水和过氧化氢,所述双酸洗槽内装有氢氟酸和盐酸。
作为优选,所述工位槽均加有透明管RECHNER开关。
作为优选,所述碱洗槽和酸洗槽均有PVDF板材构成。
作为优选,所述烘干槽A、烘干槽B、烘干槽C和烘干槽D由SUS喷氟材料构成。
作为优选,所述硝酸洗槽、初步去银洗槽A、初步去银洗槽B、酸洗连体槽、二次去银洗槽A、二次去银洗槽B内均带有抽风。
基于上述的一种黑硅制绒清洗机,研发了一种工艺,该工艺包括以下步骤:
a.上料:上料台上硅片花篮,通过机械手运载进入槽体板块;
b.初步碱洗:硅片花篮进入碱洗槽A、碱洗槽B并漂洗;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的