[发明专利]一种OLED蒸镀用掩膜板及制备方法有效

专利信息
申请号: 201710571551.7 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN107164726B 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 王志东;吕振华;邱云 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 oled 蒸镀用掩膜板 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种OLED蒸镀用掩膜板,其特征在于,包括:基板,所述基板上设有呈矩阵排列的多个开口,每个所述开口的图案形状与单个像素单元的有机发光层的图案形状一致,每个所述开口的内壁上设置有电镀层,以缩小所述开口的图案大小至单个像素单元的有机发光层的图案大小;

所述电镀层包括设置在所述开口的内壁上的填充层;或,

所述电镀层包括设置在所述开口的内壁上的填充层以及设置在所述开口的内壁和所述填充层之间的种子层。

2.根据权利要求1所述的OLED蒸镀用掩膜板,其特征在于,所述填充层的材料为金属。

3.根据权利要求1所述的OLED蒸镀用掩膜板,其特征在于,所述种子层的材料为金属。

4.根据权利要求1所述的OLED蒸镀用掩膜板,其特征在于,所述种子层的厚度为10-200nm。

5.根据权利要求1-4任一项所述的OLED蒸镀用掩膜板,其特征在于,所述基板的材质为玻璃。

6.一种OLED蒸镀用掩膜板的制备方法,其特征在于,包括:

在基板上形成呈矩阵排列的多个开口;其中,每个所述开口的图案形状与单个像素单元的有机发光层的图案形状一致;

在每个所述开口的内壁上形成电镀层,以缩小所述开口的图案大小至单个像素单元的有机发光层的图案大小。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述在每个所述开口的内壁上形成电镀层,具体包括:

采用电镀工艺在每个所述开口的内壁上形成填充层。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在形成填充层之前,该方法还包括:

采用溅射工艺或喷墨打印工艺在每个所述开口的内壁上形成种子层。

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