[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201710569718.6 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN109251671B | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，包括溶胶型氧化铈、含羟基的非离子型表面活性剂、pH调节剂；
所述溶胶型氧化铈含量为0.1-1.0wt％；
所述化学机械抛光液的pH值为4.0-5.0；
所述含羟基的非离子型表面活性剂为Tween-80(失水山梨醇单油酸酯聚氧乙烯醚)、Triton X-100(聚乙二醇辛基苯基醚)、Brij-35(聚氧乙烯月桂醚)、Triton X-114(聚氧乙烯单叔辛基苯基醚)、F68(普兰尼克)、O-20(平平加O-20)、O-30(平平加O-30)、O-50(平平加O-50)。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述pH调节剂选自氢氧化钾或硝酸。
3.如权利要求1-2任一所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液中还包括氮化硅抑制剂和蝶形凹陷抑制剂。
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