[发明专利]一种琉璃的打磨、抛光工艺

权利要求书

1.一种琉璃的打磨、抛光工艺，其特征在于，包括以下步骤：

切割：将琉璃粗胚取出后，对多余部分的琉璃和粘在琉璃上的石膏进行切除；

粗磨：用22目的粗金刚砂泥放到研磨机的沙漏上，在所述沙漏上面浇一点水，砂水会流到磨盘上就可以打开研磨机对琉璃切割面进行研磨；

细修：采用细修笔对毛边、气泡位置进行修饰；

喷砂打磨：将琉璃放入喷砂机内喷砂，对琉璃进行打磨；

清洗：对打磨后的琉璃进行清洗；

细磨：用100目的粗金刚砂泥对琉璃进行细磨；

打磨：对琉璃用打磨枪进行打磨；

抛光：用抛光粉于十倍的水搅拌均匀后制成抛光粉溶剂，通过抛光机用抛光粉溶剂对琉璃进行抛光。

2.根据权利要求1所述的一种琉璃的打磨、抛光工艺，其特征在于，所述粗磨时间为5-15分钟即可。

3.根据权利要求1所述的一种琉璃的打磨、抛光工艺，其特征在于，所述细修笔根据修饰部位的大小、形状、平顺度等要求更换不同的笔头。

4.根据权利要求1所述的一种琉璃的打磨、抛光工艺，其特征在于，所述喷砂打磨时间为二十分钟。

5.根据权利要求1所述的一种琉璃的打磨、抛光工艺，其特征在于，所述清洗采用高压水枪进行清洗。

6.根据权利要求1所述的一种琉璃的打磨、抛光工艺，其特征在于，所述细磨时间为20-40分钟。

7.根据权利要求1所述的一种琉璃的打磨、抛光工艺，其特征在于，所述打磨枪打磨的时候对琉璃表面喷水。