[发明专利]一种带有圆弧形曲面凸台的冲击冷却系统在审
申请号: | 201710567824.0 | 申请日: | 2017-07-13 |
公开(公告)号: | CN107449308A | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 许卫疆;李鹏刚;张博伦;朱惠人;李伟生 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | F28D21/00 | 分类号: | F28D21/00 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人: | 陈星 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带有 圆弧 曲面 冲击 冷却系统 | ||
1.一种带有圆弧形曲面凸台的冲击冷却系统,其特征在于:包括射流板、冲击靶板、射流孔、冷却流道、圆弧形曲面凸台,在射流板与冲击靶板之间形成冷却流道,所述射流板上设有使流体形成射流的射流孔,所述冲击靶板上设置有圆弧形曲面凸台阵列,圆弧形曲面凸台位于射流孔中心下方的冲击靶板上;所述圆弧形曲面凸台为带有圆弧母线的圆锥体结构,圆弧形曲面凸台高度Hc为0.2~4Dj,圆弧形曲面凸台底部半径Rc为0.5~5Dj,圆弧形曲面凸台的圆弧母线半径Rh为0.3~16Dj;所述射流孔直径Dj为0.5~8mm;射流板与冲击靶板之间间距H为1~8Dj。
2.根据权利要求1所述的带有圆弧形曲面凸台的冲击冷却系统,其特征在于:所述射流孔为多个,射流孔在射流板上成阵列布设,射流孔中心下方对应有圆弧形曲面凸台,两个射流孔之间间距Wc为20~25Dj。
3.根据权利要求1所述的带有圆弧形曲面凸台的冲击冷却系统,其特征在于:所述冲击靶板上布设的圆弧形曲面凸台为相互独立结构。
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