[发明专利]用于沉积的掩模及其制造方法

权利要求书

1.一种用于沉积的掩模，所述掩模包括：

沉积部分，其包括多个沉积图案；

外周部分，其被构造成包围所述沉积部分的外边缘；

焊接线，该焊接线被设置为在所述外周部分中围绕所述沉积部分；以及

至少一个延伸部分，其位于所述沉积部分与所述外周部分之间的边界处；

其中，所述延伸部分具有比所述外周部分的厚度小的厚度，并且

其中，所述外周部分具有比所述多个沉积图案的厚度大的厚度。

2.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述延伸部分从所述沉积部分延伸至所述外周部分所在的区域。

3.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述沉积部分的整个区域具有与所述延伸部分的厚度相同的厚度。

4.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述沉积部分的位于所述沉积图案和与所述沉积图案相邻的具有最大宽度的其它沉积图案之间的区域、或者所述沉积部分的位于所述沉积图案与具有最大宽度的外周部分之间的区域以及所述外周部分的最大宽度的区域位于同一平面中。

5.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述延伸部分和所述沉积部分是通过同一电铸处理形成的。

6.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述延伸部分的在基于所述焊接线延伸的方向上具有最大宽度的表面被设置为与所述焊接线相邻。

7.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述延伸部分包括沿第一方向布置的至少一个第一图案以及沿与所述第一方向交叉的第二方向布置并且与所述第一图案交叠的至少一个第二图案。

8.根据权利要求7所述的掩模，其中，所述第一图案延伸的所述第一方向与所述焊接线延伸的方向相同。

9.根据权利要求8所述的掩模，其中，所述第一图案包括在该第一图案的至少一个端部上形成的至少一个突起。

10.根据权利要求8所述的掩模，其中，所述第一图案和所述第二图案具有条形形状或多边形形状。

11.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述延伸部分具有梯形形状。

12.一种掩模组件，所述掩模组件包括：

根据权利要求1至11中的任一项所述的掩模；以及

掩模框架，其设置在所述掩模的外周上，

其中，所述掩模框架结合到所述外周部分的一个表面。

13.一种制造根据权利要求1至11中的任一项所述的用于沉积的掩模的方法，所述方法包括如下步骤：

在基板上对第一电极和第二电极进行构图；

在所述基板的所述第一电极与所述第二电极之间的区域上形成光致抗蚀剂图案；

将掩模材料初次电镀在位于所述基板的外周上的所述第一电极上；

将掩模材料二次电镀在所述第一电极和所述第二电极上，其中，在所述二次电镀的步骤中形成所述至少一个延伸部分；

沿着围绕所述沉积部分的焊接线将掩模框架焊接到所述掩模的位于所述外周部分中的一个表面；以及

去除所述基板以及所述第一电极和所述第二电极。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述沉积部分与所述外周部分之间的边界处设置所述延伸部分。

15.根据权利要求13所述的方法，其中，所述第一电极和所述第二电极与不同的电流装置连接。

16.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述第一电极与所述第二电极之间的边界处，所述第二电极包括沿第一方向布置的至少一个第一图案以及沿与所述第一方向交叉的第二方向布置并且与所述第一图案交叠的至少一个第二图案。