[发明专利]一种高光墨水及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及陶瓷墨水及其制备领域，特别涉及一种高光墨水及其制备方法。

背景技术

陶瓷墨水指含有某种特殊陶瓷无机粉体的悬浊液或乳浊液，通常包括陶瓷无机粉体、溶剂、分散剂、结合剂、表面活性剂及其它辅料。

目前市面上的高光陶瓷墨水喷墨打印在坯料上经过烧制后喷涂上墨水的地方都会出现明显的下陷，烧制后的墨水的颜色与目标颜色相比色差大，闪光效果不好，墨水适用的烧成温度范围窄。

可见，现有技术还有待改进和提高。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种高光墨水，旨在改善现有技术中的高光墨水喷墨打印在坯料上烧制后喷涂墨水的地方出现明显下陷，色差大，闪光效果不好，适用的烧成温度范围窄的问题。

为了达到上述目的，本发明采取了以下技术方案：

一种高光墨水，按照重量份计算，包括：

硅灰石10-20份，

低温高硼熔块15-25份，

硅酸锆0.5-5份，

分散剂1-7份，

酯类化合物5-15份，

溶剂38-60份。

所述的高光墨水，按照重量份计算，包括：

硅灰石 12-18份，

低温高硼熔块 15-20份，

硅酸锆 0.5-2份，

分散剂 1-6份，

酯类化合物 5-10份，

溶剂 42-56份。

所述的高光墨水，其中，所述的低温高硼熔块包括如下质量分数的组分：

B₂O₃ 20%-40%，

SiO₂ 35%-45%，

Al₂O₃2%-5%，

Na₂O 10%-15%，

CaO10%-15%。

所述的高光墨水，其中，所述的高光墨水中的分散剂是蓖麻油或氢化蓖麻油酸高分子聚合物中的至少一种。

所述的高光墨水，其中，所述的高光墨水中的酯类化合物为脂肪酸乙基己酯、脂肪酸甲酯、脂肪酸异丙酯、丁二酸二异丁酯、戊二酸二异丁酯、己二酸二异丁酯中至少一种。

所述的高光墨水，其中，所述的溶剂为白油。

所述的高光墨水，其中，所述的高光墨水中的无机成分的酸碱性呈中性，电导率为40-100us/cm。

所述的高光墨水，其中，所述的高光墨水的粒径D90控制在800nm以内，40℃的条件下，粘度为10-20mPa·s。

所述的高光墨水的制备方法，包括以下步骤：

A.分别将硅灰石、低温高硼熔块、硅酸锆研磨至2000目；

B.将步骤A中研磨后的原料与所述高光墨水的其他成分按其重量份加入到砂磨机中研磨，研磨1吨所述墨水需要35-45h；

C.检测上述步骤B中研磨后的产物的细度和粘度，合格则进入下一工序，不合格则返回步骤B继续研磨；

D. 过滤，收集滤液，所述滤液再次过滤，收集滤液，得成品墨水。

所述的高光墨水的制备方法，其中，所述的步骤D中的第一次过滤的过滤精度为2μm，第二次过滤的过滤精度为1μm。

有益效果：

本发明提供了一种高光墨水及其制备方法，所述高光墨水能够改善现有技术中的高光墨水喷涂上坯料烧制完成后产生的下陷问题，所述高光墨水施工烧制后色差少，闪光效果明显，适用的烧成范围为1150-1220℃，比市面上烧成范围一般只有10-20℃的高光墨水的烧成范围大很多，适用于更多不同烧成范围的陶瓷制品的使用。

附图说明

图1为本发明提供的高光墨水的制备方法流程图。

具体实施方式

本发明提供一种高光墨水及其制备方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明提供一种高光墨水,按照重量份计算，包括：

硅灰石 10-20份，

低温高硼熔块 15-25份，

硅酸锆 0.5-5份，

分散剂 1-7份，

酯类化合物 5-15份，

溶剂 38-60份。