[发明专利]双层晶体位置查找表的获取方法有效
| 申请号: | 201710560277.3 | 申请日: | 2017-07-11 |
| 公开(公告)号: | CN107507164B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
| 发明(设计)人: | 魏清阳;戴甜甜;马天予;江年铭;刘亚强 | 申请(专利权)人: | 北京永新医疗设备有限公司 |
| 主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T11/00;G06T11/20;G01T1/29 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张润 |
| 地址: | 102206 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双层 晶体 位置 查找 获取 方法 | ||
1.一种双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,包括以下步骤:
以表模式采集镥本底单光子事件,并根据所述镥本底单光子事件生成镥本底单光子事件的泛场图像I1;
设置符合时间窗,得到镥本底符合事件,并根据所述镥本底符合事件生成镥本底符合事件的泛场图像I2;
根据镥本底符合事件的泛场图像I2,获取探测器环内层晶体响应顶点P1;
在泛场图像I1中扣除泛场图像I2以获取探测器环外层晶体响应的泛场图像I3,并根据所述探测器环外层晶体响应的泛场图像I3获取探测器环外层响应顶点P2;
利用所述探测器环内层晶体响应顶点P1和所述探测器环外层响应顶点P2自动生成晶体位置查找表。
2.根据权利要求1所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,所述根据所述镥本底单光子事件生成泛场图像I1由所有镥本底单光子事件统计生成泛场图像I1。
3.根据权利要求1所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,设置符合时间窗是根据探测器环晶体与晶体最大距离,以及探测器固有时间分辨率。
4.根据权利要求1所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,获取探测器环内层晶体响应顶点P1的方法具体包括:
获取所述泛场图像I1在X,Y方向的投影;
根据邻域极值方法分别获取投影在X和Y方向上的预设平均峰位;
根据预设平均峰位,生成一个预设顶点阵列;
根据均值平移算法和预设顶点阵列,获取探测器环内层晶体响应顶点P1。
5.根据权利要求4所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,还包括:根据样条拟合、或者混合高斯拟合、或者均值平移算法,获取探测器环内层晶体响应顶点P1。
6.根据权利要求1所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,在泛场图像I1中扣除泛场图像I2以获取探测器环外层晶体响应的泛场图像I3,公式为:
其中,C1、C2分别为泛场图像I1和泛场图像I2总计数,ρ是一个0~1的数。
7.根据权利要求1所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,根据所述探测器环外层晶体响应的泛场图像I3获取探测器环外层响应顶点P2具体包括:
获取所述泛场图像I2在X,Y方向的投影;
根据邻域极值方法分别获取投影在X和Y方向上的预设平均峰位;
根据预设平均峰位,生成一个预设顶点阵列;
根据均值平移算法和预设顶点阵列,获取探测器环内层晶体响应顶点P2。
8.根据权利要求1所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,利用所述探测器环内层晶体响应顶点P1和所述探测器环外层响应顶点P2生成晶体位置查找表,具体包括:
计算泛场图像中各像素与带晶体编号的P1和P2中的每个响应顶点的距离,以具有最小距离的响应顶点所带的晶体编号作为泛场图像中的像素的晶体编号。
9.根据权利要求4或7所述的双层晶体位置查找表的获取方法,其特征在于,还包括:对错误顶点进行修正。
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