[发明专利]带电粒子束治疗装置有效

专利信息
申请号: 201710560075.9 申请日: 2017-07-11
公开(公告)号: CN109224318B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 上口长昭 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 胡建新;朴勇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 带电 粒子束 治疗 装置
【说明书】:

本发明提供一种带电粒子束治疗装置。进行扫描照射的带电粒子束治疗装置中,防止照射喷嘴的大型化并且改善照射区周缘部的带电粒子束的剂量分布。带电粒子束治疗装置(1)的多叶准直器(30)具有隔着带电粒子束的基准轴(A)而对置设置的一对叶片组(31、32),所述叶片组(31、32)具有:叶片(41),沿X方向并列有多个且能够沿Y方向独立进退,并阻挡带电粒子束;及叶片驱动部(43),使叶片(41)沿Y方向进退,多个叶片(41)中至少一部分在Y方向上的长度比最大扫描范围的Y方向上的长度的一半短。

技术领域

本发明涉及一种带电粒子束治疗装置。

背景技术

已知有一种通过对被照射体照射带电粒子束来进行治疗的带电粒子束治疗装置中,在照射带电粒子束的照射喷嘴内具备多叶准直器的结构(例如,专利文献1)。多叶准直器包含包括多个叶片的一对叶片组,通过使叶片移动,从而将一对叶片组之间的开口形状对应到带电粒子束的照射区。

专利文献1:日本特开2014-176546号公报

对于被照射体进行按照规定的扫描图案来照射带电粒子束的所谓扫描照射的带电粒子束治疗装置中,并不是以确定照射区的形状作为主要目的,而是以改善照射区周缘部的剂量分布作为主要目的,而考虑应用多叶准直器。即,考虑在照射区的周缘部,以使剂量急剧下降而非平缓下降为主要目的而应用多叶准直器。然而,若对进行扫描照射的带电粒子束治疗装置应用专利文献1中记载的多叶准直器,则需要确保用于使在照射喷嘴内包含于一对叶片组的叶片移动的空间,这有可能导致照射喷嘴的大型化。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于提供一种能够防止进行扫描照射的带电粒子束治疗装置中的照射喷嘴的大型化并且能够改善照射区周缘部的带电粒子束的剂量分布的带电粒子束治疗装置。

为了实现上述目的,本发明所涉及的带电粒子束治疗装置将带电粒子束照射到被照射体,该带电粒子束治疗装置的特征在于,其具备:加速器,生成所述带电粒子束并将其射出;照射喷嘴,将所述带电粒子束照射到被照射体;及传输线路,连接所述加速器与所述照射喷嘴,并传输所述带电粒子束,将与照射所述带电粒子束时的基准轴正交的轴作为第1轴,将与所述基准轴及所述第1轴正交的轴作为第2轴,所述照射喷嘴具有:扫描部,在预先设定的最大扫描范围内能够向沿着所述第1轴的方向及沿着所述第2轴的方向扫描所述带电粒子束;及多叶准直器,比所述扫描部更靠下游侧设置,并规定所述带电粒子束照射于所述被照射体时的照射区的形状,所述多叶准直器具有隔着所述基准轴而对置设置的一对叶片组,所述叶片组具有:叶片,在沿着所述第1轴的方向上并列有多个,并且能够在沿着所述第2轴的方向上独立进退,并阻挡所述带电粒子束;及叶片驱动部,使所述叶片在沿着所述第2轴的方向上进退,多个所述叶片中的至少一部分叶片的沿所述第2轴的方向上的长度比所述最大扫描范围的沿着所述第2轴的方向上的长度的一半短。

上述带电粒子束治疗装置中,通过扫描部扫描的带电粒子束经由多叶准直器被照射到被照射体,因此,照射区周缘部的带电粒子束的剂量分布得到改善。并且,多叶准直器的多个叶片中的至少一部分的沿着第2轴的方向上的长度比最大扫描范围的沿着第2轴的方向上的长度的一半短。因此,能够缩小确保用于使叶片沿第2轴的方向进退的空间,因此能够实现多叶准直器的小型化,从而能够防止照射喷嘴的大型化并改善带电粒子束的剂量分布。

在此,能够将带电粒子束治疗装置设为如下方式:使其还具备一对阻挡块,在沿着所述第1轴的方向上,设置于所述叶片组的两端侧,并且沿着所述第2轴的方向上的长度为所述最大扫描范围的沿着所述第2轴的方向上的长度以上,并阻挡所述带电粒子束。

如上所述,还具备一对阻挡块,由此即使在叶片组的两端侧也能够改善剂量分布。

并且,能够将带电粒子束治疗装置设为如下方式:所述叶片组具有支承所述叶片的支承部,所述叶片相对于所述支承部能够以沿着所述第1轴的轴为中心摆动。

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