[发明专利]可在常压和低压间转换的喷涂设备在审

专利信息
申请号: 201710558257.2 申请日: 2017-07-10
公开(公告)号: CN107299331A 公开(公告)日: 2017-10-27
发明(设计)人: 黄勇彪;吕喜鹏;林文宝;刘海燕;李宝英 申请(专利权)人: 深圳市众诚达应用材料科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35;C23C4/131;C23C4/134;C23C24/04
代理公司: 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙)44314 代理人: 林俭良
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 常压 低压 转换 喷涂 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及喷涂设备领域,尤其是涉及一种可在常压和低压间转换的喷涂设备。

背景技术

喷涂磁控溅射靶材应用于触摸屏、建筑玻璃、汽车玻璃、太阳能光伏、装饰五金等产业,市场容量巨大。但国内喷涂磁控溅射靶材市场中,高端产品几乎被德国、美国、比利时等发达国家垄断。由于技术封闭和起步较晚,国内厂家一般均采用喷枪直接喷涂材料成型:一方面由于是在敞开的大气环境下高温喷涂材料成型,成型的金属或合金靶材材料中氧氮含量必然大幅增加,导致所成型的靶材材料在磁控溅射时的成膜性和导电性不佳而无法使用;另一方面,氧化物陶瓷靶材材料在常压条件下通过高温热喷涂后通常会失氧,失氧的氧化物涂层因具有导电性而能够满足直流磁控溅射的需要,不导电的靶材材料在直流磁控溅射过程中根本无法起弧,导致溅射过程无法进行;再一方面:如果分开单独购置专用设备,对企业来说,占地和资金就都要至少多出一倍。这就需要一种多功能装置设备:使喷涂过程既能在常压环境下喷涂氧化物类磁控溅射靶材材料、又能方便快速地形成低压环境,喷涂金属及其合金等要求低氧氮含量的磁控溅射靶材。但目前国内外市场上还没有这样的装置设备。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术中的上述缺陷,提供一种可在常压和低压间转换的喷涂设备。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种可在常压和低压间转换的喷涂设备,包括:

喷涂室,包括底座以及可分离地罩在底座上的密封罩,底座与密封罩之间形成密封,以密封整个喷涂室;

工作台,设在喷涂室中,其上设有可安装待喷涂件的安装机构;

喷枪,设在工作台上,以向安装在安装机构上的待喷涂件进行喷涂;

抽真空机构,与喷涂室内部连通;

抽风排尘机构,与喷涂室内部连通。

优选地,喷枪可滑动或转动地设在工作台上。

优选地,喷枪可沿第一方向和第二方向滑动地设在工作台上,第一方式和第二方向不平行,喷涂设备还包括带动喷枪移动的驱动机构。

优选地,喷枪为电弧喷枪、冷气动力喷枪或等离子喷枪。

优选地,安装机构包括可夹持待喷涂件的夹具,以实现待喷涂件的安装。

优选地,密封罩在上方罩住工作台,罩子的开口形状与工作台的外形对应。

优选地,该喷涂设备包括可与密封罩连接的吊装机构,以通过吊装机构打开或盖上密封罩。

优选地,抽真空机构和/或抽风排尘机构从工作台底部向喷涂室连通。

优选地,抽真空机构以及抽风排尘机构与喷涂室之间连通管道上设有管道切换机构,管道切换机构包括阀门,以通过阀门打开或关闭抽真空机构以及抽风排尘机构与喷涂室之间的连接。

优选地,该喷涂设备还包括基座,喷涂室、工作台、喷枪、抽真空机构和抽风排尘机构设在基座上。

实施本发明的技术方案,至少具有以下的有益效果:本发明的喷涂设备用于喷涂溅射靶材或其它高端产品,通过更换不同喷枪和启闭密封罩方便地实现常压电弧喷涂、低压电弧喷涂、常压等离子喷涂、低压等离子喷涂、常压冷气动力喷涂、低压冷气动力喷涂等喷涂工艺,极大地方便企业选用各种工艺喷涂金属、陶瓷、合金等多种溅射靶材材料,为企业节约了投资。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:

图1是本发明一优选实施例中的喷涂设备的立体图(密封罩处于密封状态)。

图2是图1中的喷涂设备的另一立体图(密封罩处于打开状态)。

图3是图2中A部位的局部放大图。

图4是图1中的喷涂设备的另一立体图(密封罩处于打开并放置在一旁的状态)。

图5是图1中的喷涂设备的另一立体图(密封罩处于密封状态)

图6是图1中的喷涂设备的另一立体图(密封罩处于打开状态)。

图7是图1中的喷涂设备的另一立体图(密封罩处于打开并放置在一旁的状态)。

其中,1.喷涂室,11.底座,12.密封罩,12a.观察窗,2.工作台,21.夹具,3.喷枪,4.抽真空机构,5.抽风排尘机构,6.管道切换机构,61.连通管道,7.吊装机构,8.基座,9.待喷涂件。

具体实施方式

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