[发明专利]电子隐身方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及隐身技术领域，具体涉及电子隐身方法及装置。

背景技术

在隐身技术领域，目前已有的隐身技术都是采用光学处理的方法进行，例如对光线进行反射、折射、或是吸收特定波长的光来达到减弱人眼或机器可观察的程度，从而达到一定程度上的隐身，减少反射和吸收特定波长的光原理类似，通过吸收特定波长的光反射不容易引起人眼视觉的光来达到隐身的目的。

在这种光线处理的技术下，隐身的效果并不理想，具体表现为阴影仍旧可以察觉，只是一定程度的变暗了，在可见光范围内要找到吸收各种波长光的材料目前还比较困难；折射技术，是通过折射物体周围的光线来达到隐身物体的目的的，据媒体报道已有相关公司开发出‘量子隐形’材料达到了隐身的效果，但是隐身材料的边缘依旧清晰可见，加之折射原理的自身因素导致被隐身物体与周围环境对比下发生一定程度的扭曲。

因此采用光学处理的方法进行隐身具有一定的局限性，无法避免阴影问题、且隐身材料边缘可见，因此无法实现理想的隐身效果。

发明内容

本发明的目的在于提供电子隐身方法和装置，用以解决现有光学隐身存在的阴影、边缘可见的问题，能够对隐身材料实现完全隐身。

为实现上述目的，本发明方法包括如下步骤：

一种电子隐身方法，包括：

待隐身材料表层上的感光位点接收并检测入射光线。

在待隐身材料的可视一侧设置发光材料。

计算入射光线延长线与发光材料表层的交点，作为发光位点。

发光位点发射与入射光线同方向、同频率、同波长的光。

进一步地，发光位点用于发出开度为180度的半球形任意方向的光线。

本发明针对上述电子隐身方法提出了一种电子隐身装置，包括：

感光位点，为组成待隐身材料表层的最小结构单元，用于吸收来自各方向的入射光线。

传感器，设置于感光位点上，用于检测感光位点吸收的入射光线的方向、频率以及波长信息。

处理器，从传感器处获取入射光线的方向、频率和波长信息；处理器依据入射光线的方向计算对应的发光位点，并控制对应的发光位点发射与入射光线同方向、同频率、同波长的光。

发光位点，为组成发光材料表层的最小结构单元，用于在处理器的控制下发射与入射光线同方向、同频率、同波长的光。

进一步地，待隐身材料和发光材料涂覆在同一个平面的两侧，即感光位点与发光位点位于同一个平面的两侧，感光位点与发光位点间隔排列，细度小于或者等于视杆细胞的细度。

进一步地，待隐身材料和发光材料组成双层结构，待隐身材料作为外层、发光材料作为内层，即感光位点位于外层，发光位点位于内层。

进一步地，感光位点和发光位点主动向处理器发送自身坐标。

进一步地，微处理器发出球形波，将球形波与感光位点的交点作为感光位点的坐标，将球形波与发光位点的交点作为发光位点的坐标。

进一步地，发光位点用于发出开度为180度的半球形任意方向的光线。

进一步地，待隐身材料为正方体，具有上下两个表层，上表层上的感光位点A吸收入射光线，下表层的感光位点B将入射光线进行出射。

本发明方法具有如下优点：通过电子隐身的方法，吸收入射在待隐身材料上的光线，经由处理器计算入射点入射光线延长线与对侧发光材料的交点，由该发光位点发射同样频率波长的光，实现光线绕过物体继续传播，从而实现隐身。该方法可实现动态、不同方位的隐身，可消除折射带来的与周围环境对比下的局部扭曲，消除边缘效应，隐藏不规整的物体，不需要寻找可以吸收各种波长的材料，消除反射阴影。

附图说明

图1为本发明实施例1中提出的方法的流程图；

图2为本发明实施例2中提出的隐身装置的结构图；

图3为本发明实施例2中提出的隐身装置的光路原理图；

图4为本发明实施例3中感光位点和发光位点的第一种位置关系示意图；

图5为本发明实施例3中感光位点和发光位点的第二种位置关系示意图；

图6为本发明实施例4中正方体形待隐身材料结构图；

图7为本发明实施例4中两个观察位点观察同一个透过不规则隐身材料的物体的情况。

具体实施方式

以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

实施例1

一种电子隐身方法，具体流程如图1所示，包括如下步骤：

S101、待隐身材料表层上的感光位点接收并检测入射光线。