[发明专利]用于改良的浸透性能的具有涂层的基板支撑边缘环

权利要求书

1.一种基板支撑环，包括：

环状主体，包括：

外条带，所述外条带从第一环状侧壁在平面中径向向内延伸，所述第一环状侧壁设置在第二环状侧壁外部；和

基板支撑区域，所述基板支撑区域从所述第二环状侧壁向内延伸且在所述外条带的所述平面之下，其中所述环状主体包括暴露的第一材料，且所述基板支撑区域的至少一部分被涂层覆盖，所述涂层包括不同于所述第一材料的第二材料，其中所述基板支撑区域的平面与所述外条带的平面实质上平行，并且其中所述涂层具有与待处理的基板的表面的发射率实质上相等的发射率。

2.如权利要求1所述的环，其中所述第一材料包括碳化硅。

3.如权利要求2所述的环，其中所述第二材料包括耐火材料。

4.如权利要求3所述的环，其中所述耐火材料选自由陶瓷材料、蓝宝石以及碳材料构成的组。

5.如权利要求3所述的环，其中所述耐火材料选自由氧化物膜、氮化物膜和上述膜的组合构成的组。

6.如权利要求5所述的环，其中所述耐火材料选自由氧化铝(Al₂O₃)、氧化铍(BeO)、二氧化锆(ZrO₂)、氧化铪(HfO₂)、氧化钍(ThO₂)、稀土氧化物、氮化锆(ZrN)、氮化铪(HfN)和上述材料的组合构成的组。

7.如权利要求6所述的环，其中所述稀土氧化物是氧化钇(Y₂O₃)和/或氧化钪(Sc₂O₃)。

8.如权利要求1所述的环，其中所述外条带包括硅膜。

9.如权利要求8所述的环，其中所述硅膜包括选自由非晶硅、单晶硅和多晶硅构成的组的膜。

10.如权利要求8所述的环，其中所述硅膜包括第一硅层、氧化物层以及配置于所述氧化物层上的第二硅层。

11.如权利要求1所述的环，其中所述环状主体包括下表面，所述下表面具有配置于所述下表面上的膜。

12.一种基板支撑环，包括：

环状主体，所述环状主体包括陶瓷材料，所述环状主体包括：

第一环状侧壁；

外条带，所述外条带从所述第一环状侧壁径向向外延伸，所述外条带包括涂层，所述涂层包括第一硅层、氧化物层以及配置于所述氧化物层上的第二硅层，所述涂层具有与待处理的基板的表面的发射率实质上相等的发射率；

第二环状侧壁，所述第二环状侧壁耦接至所述外条带；以及

内唇部，所述内唇部从所述第一环状侧壁径向向内延伸，所述内唇部包括基板支撑区域，其中所述基板支撑区域的平面与所述外条带的平面实质上平行，并且其中所述基板支撑区域由包括耐火材料的膜构成。

13.如权利要求12所述的环，其中所述耐火材料选自由陶瓷材料、蓝宝石以及碳材料构成的组。

14.如权利要求13所述的环，其中所述耐火材料选自由氧化铝(Al₂O₃)、氧化铍(BeO)、二氧化锆(ZrO₂)、氧化钇(Y₂O₃)和上述材料的组合构成的组。

15.如权利要求13所述的环，其中所述耐火材料包括莫氏硬度表(Mohs scale)上7或更大的硬度。

16.如权利要求12所述的环，其中所述膜包括硅膜。