[发明专利]与等离子清洁机一起使用的磁体

权利要求书

1.一种用于从真空室清除污染物的清洁系统，包括：

用于生成等离子体的等离子体发生器，所述等离子体发生器具有出口，带电粒子和活性中性粒子通过所述出口离开所述等离子体发生器；

其特征在于，

磁体定位在所述等离子体发生器外侧以减少进入所述真空室的带电粒子的数量，

其中，所述磁体的磁性足够强以防止来自所述等离子体发生器的带电粒子在所述真空室内产生二次等离子体源。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，还包括用于将所述活性中性粒子从所述出口引导到所述真空室的通道。

3.根据权利要求1或2所述的清洁系统，其中，所述磁体是线圈。

4.一种包括用于处理工件的真空室和用于清洁所述真空室和/或所述工件的等离子清洁系统的装置，包括：

根据权利要求1所述的清洁系统；

用于容纳所述工件的真空室；和

连接所述真空室和所述等离子体发生器的通道。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述磁体是永磁体。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述磁体包括NdFeB或SmCo磁体。

7.根据权利要求4所述的装置，其中，所述磁体是线圈。

8.根据权利要求4至6中的任一项所述的装置，还包括带电粒子束柱，其被配置为提供带电粒子束以在所述真空室中的工件上操作，并且其中所述磁体产生足够弱的磁场以便不干扰所述带电粒子束的操作。

9.根据权利要求4至6中的任一项所述的装置，其中，所述磁体定位成邻近所述等离子体发生器的出口。

10.根据权利要求4至6中的任一项所述的装置，其中，所述磁体定位成邻近所述通道并产生延伸到所述通道中的磁场。

11.根据权利要求4至6中的任一项所述的装置，其中，所述等离子体发生器包括AC辉光放电等离子体发生器，RF电感耦合或电容耦合等离子体发生器或DC等离子体发生器。

12.一种从真空室清除污染物的方法，包括：

在真空室外侧的等离子体发生器中生成等离子体，所述等离子体含有中性活性粒子和带电粒子，所述等离子体发生器具有出口，所述中性活性粒子和所述带电粒子通过所述出口离开所述等离子体发生器；和

允许中性活性粒子和带电粒子通过所述出口离开等离子体发生器；

其特征在于

通过使用来自定位在所述等离子体发生器外侧的磁体的磁场使所述带电粒子在其离开所述出口之后偏转，以防止所述带电粒子进入所述真空室，

其中，所述磁体的磁性足够强以防止来自所述等离子体发生器的带电粒子在所述真空室内产生二次等离子体源。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，通过使用来自磁体的磁场使所述带电粒子在其离开所述出口之后偏转包括用来自永磁体的磁场使所述带电粒子偏转。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，通过使用来自磁体的磁场使所述带电粒子在其离开所述出口之后偏转包括用来自线圈的磁场使所述带电粒子偏转。

15.根据权利要求12所述的方法，其中，所述等离子体发生器的出口通向所述等离子体发生器和所述真空室之间的通道中，并且其中使所述带电粒子在其离开所述出口之后偏转包括使所述通道中的带电粒子偏转。