[发明专利]阻止氧阻聚方法和装置及在曝光机或打印机中的应用

权利要求书

1.一种阻止氧阻聚的方法，其特征在于所述方法为：

在打印期间或曝光期间，应用不含氧化性气体的流动气体持续与被打印或曝光的基材表面接触，排除基材表面的氧气成分，其中流动气体与基材表面接触的气体束的横截面为圆形，圆形的直径为5-1000mm，或流动气体与基材表面接触的气体束的横截面为方形，方形的宽度为5-30mm，方形的长度为20-2000mm，流动气体与基材表面接触的瞬间气体流速为1-20m³/秒。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述方形的长度为20-1000mm。

3.一种阻止氧阻聚装置，所述装置包括喷气头和与喷气头连接的气体输送管，其特征在于所述气体为保护气体，即气体中不含有氧化性的气体成分，所述喷气头内部具有喷气孔，喷气头末端的喷气孔横截面的面积为0.12-200mm²，喷气孔中的保护气体压力为0.01-0.4kg/cm²。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于所述喷气头末端的喷气孔横截面积为0.15-150 mm²，喷气孔的保护气体压力为0.1-0.3kg/cm²。

5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于所述喷气孔的横截面为圆形，圆形的直径范围为0.1-5.0mm。

6.根据权利要求3所述的装置，其特征在于所述喷气孔的横截面为方形，方形的宽度为0.1-5.0mm，方形的长度为20-2000mm。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于所述方形的宽度为0.2-3mm，方形的长度为20-1000mm。

8.根据权利要求3所述的装置，其特征在于所述喷气头的数量为一个或多个，每个喷气头分别与气体输送管连接。

9.根据权利要求3所述的装置，其特征在于所述装置还包含保护气体的气体发生器或气体存储器，该发生器或存储器与气体输送管连接。

10.根据权利要求3所述的装置，其特征在于所述装置还包括开关、压力调节阀、压力测量装置和控制系统。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于所述装置中控制系统与开关、压力调节阀、压力测量装置分别连接，连接方式为有线连接或无线连接，控制系统接收开关、压力调节阀、压力测量装置所发来的信号并向开关、压力调节阀、压力测量装置输送信号。

12.一种激光直写曝光机或UV打印机，其特征在于所述曝光机或UV打印机设置有权利要求3-11任一项所述的阻止氧阻聚装置，并且阻止氧阻聚装置中的喷气头设置于曝光机或UV打印机的装载基材的平台所在平面的上方。

13.根据权利要求12所述的激光直写曝光机或UV打印机，其特征在于所述阻止氧阻聚装置上的一个或多个喷气头均设置于装载基材的平台所在平面的上方，或当喷气头数量为多个时，在装载基材的平台的正上方以及在侧上方分别设置喷气头，喷气头上喷气孔所对应的方向为装置基材的平台的基材所在位置。

14.根据权利要求12所述的激光直写曝光机或UV打印机，其特征在于所述喷气孔与装载基材的平台的表面的距离为1-50cm，优选的为2-10cm，或者，基材的表面与喷气孔的距离为1-50cm，优选的为2-10cm。

15.根据权利要求12所述的激光直写曝光机或UV打印机，其特征在于所述阻止氧阻聚装置中的喷气头通过喷气头固定部件与发光装置固定在一起，随着发光装置的移动而移动。