[发明专利]光学成像系统有效
申请号: | 201710550179.1 | 申请日: | 2017-07-07 |
公开(公告)号: | CN107643583B | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 赖建勋;廖国裕;刘燿维;张永明 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 智云 |
地址: | 中国台湾中部科学工业*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依次包括:
一第一透镜,具有屈折力;
一第二透镜,具有正屈折力;
一第三透镜,具有屈折力;
一第四透镜,具有屈折力;
一第一成像面,为一特定垂直于光轴的可见光像平面,并且所述第一成像面的中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值,于可见光频谱为波长555nm,所述第一空间频率为220cycles/mm;以及
一第二成像面,为一特定垂直于光轴的红外光像平面并且所述第二成像面的中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值,于红外光频谱为波长850nm;
一第一镜片定位组件,其包括有一镜座,所述镜座呈中空并且不具透光性,且所述镜座具有相互连通的一筒部以及一基部,所述筒部用以容置所述第一透镜至所述第四透镜,所述基部位于所述第四透镜以及所述第一成像面之间,并且所述基部的外周缘大于所述筒部的外周缘,所述基部垂直于光轴的平面上的最小边长的最大值为PhiD;
其中所述光学成像系统具有屈折力的透镜为四枚,所述第一透镜、所述第三透镜、所述第四透镜中至少一枚透镜具有正屈折力,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射光瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述第一成像面于光轴上具有一距离HOS,所述第一透镜物侧面至所述第四透镜像侧面于光轴上具有一距离InTL,所述光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,所述光学成像系统于所述第一成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,所述第四透镜像侧面的最大有效直径为PhiA4,所述第一成像面与所述第二成像面间于光轴上的距离为FS;所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3以及ETP4,前述ETP1至ETP4的总和为SETP,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3以及TP4,前述TP1至TP4的总和为STP,其满足下列条件:1.8≤f/HEP≤2.7959;37.5deg≤HAF≤70deg;0.912≤SETP/STP≤0.996;0<PhiA4/InTL≤5;15μm≤│FS│≤30μm;0mm<PhiD≤10mm。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第一成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第四透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.597≤EIN/ETL≤0.669。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第二透镜像侧面以及所述第三透镜像侧面于光轴上均为凸面。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统的最大垂直可视角度的一半为VHAF,所述光学成像系统满足下列公式:VHAF≥10deg;0<PhiA4/HEP≤4.0;0<PhiA4/2HOI≤2.0。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:HOS/HOI≥1.2。
6.如权利要求2所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP1,所述第二透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP2,所述第三透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP3,所述第四透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP4,前述ETP1至ETP4的总和为SETP,其满足下列公式:0.3≤SETP/EIN<1。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第三透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第一成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,所述第四透镜像侧面上与光轴的交点至所述第一成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.5。
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