[发明专利]光学成像系统有效

专利信息
申请号: 201710550028.6 申请日: 2017-07-07
公开(公告)号: CN107643581B 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 赖建勋;廖国裕;刘燿维;张永明 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 中国台湾中部科学工业*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依次包括:

一第一透镜,具有屈折力,其物侧面与像侧面于光轴上均为凸面;

一第二透镜,具有屈折力;

一第三透镜,具有屈折力;

一第四透镜,具有屈折力;以及

一成像面;

其中所述光学成像系统具有屈折力的透镜为四枚,所述第一透镜至所述第四透镜的屈折力分别为正负正正、正正负负或正负正负,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射光瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS,所述光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3以及ETP4,前述ETP1至ETP4的总和为SETP,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3以及TP4,前述TP1至TP4的总和为STP,其满足下列条件:2≤f/HEP≤2.45;39.6900deg≤HAF≤47.4999deg以及0.936≤SETP/STP≤0.971。

2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第四透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.601≤EIN/ETL≤0.737。

3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第四透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列公式:0.3≤SETP/EIN1。

4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统包括一滤光组件,所述滤光组件位于所述第四透镜以及所述成像面之间,所述第四透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述滤光组件间平行于光轴的距离为EIR,所述第四透镜像侧面上与光轴的交点至所述滤光组件间平行于光轴的距离为PIR,其满足下列公式:0.1≤EIR/PIR≤1.1。

5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,所述光学成像系统满足下列公式:1.5≤HOS/HOI≤1.9。

6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,可见光在所述成像面上的光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处于空间频率110cycles/mm的调制转换对比转移率分别以MTFQ0、MTFQ3以及MTFQ7表示,其满足下列条件:MTFQ0≥0.2;MTFQ3≥0.01;以及MTFQ7≥0.01。

7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第四透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,所述第四透镜像侧面上与光轴的交点至所述成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.5。

8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,还包括一光圈,并且所述光圈至所述成像面于光轴上具有一距离InS,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。

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