[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种成膜装置，所述成膜装置具有收容材料的成膜源、对基板进行支承的基板支承体、以及对掩模进行支承的掩模支承体，将从所述成膜源放出的材料经由被支承于所述掩模支承体的所述掩模在被支承于所述基板支承体的基板上进行成膜，其特征在于，

所述掩模支承体具有与真空槽连结的矩形框状的第一构件、构成配置在所述第一构件的上方且与所述掩模抵接的矩形框状的第二构件的多个板状的构件、以及为了通过调整所述多个板状的构件的各自的高度来确保由支承所述掩模的所述多个板状的构件的各自的表面构成的所述第二构件的表面的平坦度而在所述第一构件与所述多个板状的构件之间配置在互不相同的位置的多个构件。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述第一构件由多个构成。

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述成膜源、所述基板支承体以及所述掩模支承体设置在所述真空槽内。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述第二构件的每条边由一个所述板状的构件构成。