[发明专利]对准标记的检测方法、对准方法及蒸镀方法

权利要求书

1.一种对准标记的检测方法，其特征在于，

所述对准标记的检测方法包括：用于使用光学机构而检测设有对准标记以及不同于所述对准标记的另外的标记的基体上的所述对准标记与所述另外的标记的第一检测工序；在所述第一检测工序之后，在未检测到所述对准标记的情况下，使所述基体移动的第一移动工序；以及用于使用所述光学机构而再次检测所述对准标记的第二检测工序，

当在所述第一检测工序中检测到所述另外的标记时，在所述第一移动工序中，使所述基体移动比未检测到所述另外的标记时的移动量少的移动量。

2.根据权利要求1所述的对准标记的检测方法，其特征在于，

所述对准标记的检测方法包括：在所述第二检测工序之后，在未检测到所述对准标记的情况下，基于该第二检测工序中的判定结果而使所述基体移动的第二移动工序；以及用于使用所述光学机构而再次检测所述对准标记与所述另外的标记的第三检测工序。

3.根据权利要求2所述的对准标记的检测方法，其特征在于，

所述第二移动工序是使所述基体返回到所述第一移动工序中的移动之前的位置，并使所述基体向与所述第一移动工序中的移动不同的方向移动的工序。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的对准标记的检测方法，其特征在于，

所述另外的标记被设置在通过所述光学机构能够与所述对准标记同时检测的位置。

5.一种对准方法，所述对准方法设置具有第一对准标记的第一基体及具有第二对准标记和不同于所述第二对准标记的另外的标记的第二基体，使用光学机构来检测所述第一对准标记、所述第二对准标记以及所述另外的标记，进行所述第一基体与所述第二基体的对准，其特征在于，

所述对准方法包括：

第一检测工序，其用于使用所述光学机构而检测所述第一对准标记、所述第二对准标记以及所述另外的标记；

第一移动工序，其在所述第一检测工序之后，在未检测到所述第一对准标记或所述第二对准标记的情况下，至少使所述第一基体或所述第二基体移动；

第二检测工序，其用于使用所述光学机构而再次检测所述第一对准标记和所述第二对准标记；

测量工序，其对于检测到的所述第一对准标记与所述第二对准标记的相对位置进行测量；以及

对准工序，其基于所述测量工序的结果，使所述第一基体或所述第二基体移动，进行所述第一基体与所述第二基体的相对位置的调整，

当在所述第一检测工序中未能检测到所述第二对准标记却检测到所述另外的标记时至少使所述第一基体或所述第二基体移动的所述第一移动工序中，至少使所述第一基体或所述第二基体移动比当在所述第一检测工序中未能检测到所述第二对准标记也未检测到所述另外的标记时的移动量少的移动量。

6.根据权利要求5所述的对准方法，其特征在于，

所述对准方法包括：第二移动工序，其在所述第二检测工序之后，在未能检测到所述第一对准标记或所述第二对准标记的情况下，至少使所述第一基体或所述第二基体移动；以及第三检测工序，其用于使用所述光学机构而再次检测所述第一对准标记、所述第二对准标记以及所述另外的标记。

7.根据权利要求6所述的对准方法，其特征在于，

所述第二移动工序是使通过所述第一移动工序而移动的基体返回到所述第一移动工序中的移动之前的位置，并使所述基体向与所述第一移动工序中的移动不同的方向移动的工序。

8.根据权利要求5所述的对准方法，其特征在于，

所述第一移动工序是在所述第一检测工序中判定为未检测到所述第一对准标记或所述第二对准标记的检测错误的情况下进行的工序，所述检测错误是由于所述第一对准标记以及所述第二对准标记重叠而产生的检测错误。