[发明专利]曝光方法和聚光透镜以及曝光机

权利要求书

1.一种曝光方法，其特征在于，玻璃基板经过涂布光阻后，进行减压干燥,以去除光阻中大部分的溶剂，再经过烘烤，进入曝光机，利用光罩在玻璃基板上对光阻定义图形；最后经过显影制程显示图形；

所述曝光机中包含聚光透镜，所述聚光透镜中设有挡光装置；

调节挡光装置以减小聚光透镜的数值孔径；

采用离轴曝光模式，入射光线与光罩的入射面呈第一夹角；

入射光经光罩狭缝衍射后，由于聚光透镜的数值孔径减小，原本不该进入聚光透镜而事实上进入聚光透镜的衍射光线将被挡光装置挡住而不能透过聚光透镜从而改善了曝光机的成像焦深。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述挡光装置只包含一个挡光圈，所述挡光圈与对焦执行部同轴，减小挡光圈自身的内径以减小聚光透镜的数值孔径。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述挡光装置包含多个挡光圏，有且仅有一个挡光圈与对焦执行部同轴，各挡光圈具有不同的内径，以旋转换位的形式切换不同内径的挡光圈与对焦执行部同轴，从而减小聚光透镜的数值孔径。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述挡光圈表面涂布黑色吸光材料，利用黑色吸收入射到挡光圈上的光线。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述数值孔径的最小值不得小于0.45。

6.一种聚光透镜，其特征在于，包括对焦执行部、转换部和挡光装置；

所述挡光装置包括至少一个挡光圈，有且仅有一个挡光圈与对焦执行部同轴；

所述挡光装置的挡光圈位于对焦执行部和转换部之间，挡光装置的挡光圈的外径大于或等于对焦执行部的外径；

调节所述挡光装置以减小聚光透镜的数值孔径。

7.根据权利要求6所述的一种聚光透镜，其特征在于，所述挡光装置仅包含一个挡光圈，所述挡光圈内径可调。

8.根据权利要求6所述的一种聚光透镜，其特征在于，所述挡光装置包含多个挡光圏及转轴，各挡光圈具有不同的内径，各挡光圈周向均匀地布置在转轴上，各挡光圈在转轴的轴向上的位置相同；各挡光圈的中心轴线到转轴中心轴线的距离相等；各挡光圈跟随转轴一起旋转实现换位。

9.根据权利要求6所述的一种聚光透镜，其特征在于，挡光圈采用不锈钢材料制作，表面涂布黑色吸光材料。

10.一种曝光机，其特征在于，包括权利要求6-9中任一项所述的聚光透镜。