[发明专利]一种工艺设计工具包的测试方法及装置有效

专利信息
申请号: 201710542541.0 申请日: 2017-07-05
公开(公告)号: CN109214023B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 尹明会;陈岚;张卫华;周欢欢;王晨 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 党丽;王宝筠
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 工艺 设计 工具包 测试 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种工艺设计工具包的测试方法,其特征在于,包括:

通过正则匹配的方式,根据预设源信息,比对验证工艺设计工具包的基本信息;

分别生成参数化单元和物理设计规则的测试图案库,并通过对测试图案库的批量测试,分别实现参数化单元和物理设计规则的验证;所述物理设计规则包括宽度、间距、包围、叠加、超出、固定值和并行间距中的至少一个;

基于工艺设计工具包,进行设计流程验证;

所述生成物理设计规则的测试图案库,并通过对测试图案库的批量测试实现物理设计规则的验证,包括:

分别以物理设计规则的设定值、大于设定值和小于设定值,生成物理设计规则的三种测试图案,以获得物理设计规则的测试图案库;采用对称的方式确定物理设计规则的参数值,以物理设计规则的设定值为对称轴,以工艺最小格点值为对称距离,大于设定值的值为设定值与工艺最小格点值之和,小于设定值的值为设定值与工艺最小格点值之差得到设定值、大于设定值和小于设定值这3个物理设计规则的参数值;

对物理设计规则的测试图案库批量测试;

所述基于工艺设计工具包,进行设计流程验证,包括:

将基准电路库进行参数化单元的映射;

基于映射后的基准电路库和工艺设计工具包,完成电路设计的全流程;

根据全流程中的各输出结果,获得PDK组件完整性、PDK与电路设计中的设计工具的衔接性以及PDK中器件的电特性的分析结果,所述PDK中器件的电特性用于判断所述PDK中器件是否与常规器件的特性曲线相符。

2.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于,所述预设源信息包括制造工艺信息、SPICE器件模型和PDK设计规范;根据预设信息,比对验证工艺设计工具包的基本信息,包括:

根据制造工艺信息,比对验证器件名称及端点、器件视图和版图图层的基本信息;

根据SPICE器件模型,比对验证器件仿真参数和网表的基本信息;

根据PDK设计规范,对比验证器件的CDF参数和器件的回调函数的基本信息。

3.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于,生成参数化单元的测试图案库,并通过对测试图案库的批量测试实现参数化单元的验证,包括:

将参数化单元中的各CDF参数进行参数实例化,使得各CDF参数具有实例化的参数值;

根据各CDF参数的实例化的参数值,生成具有不同实例化的参数值组合的参数化单元的测试图案库,参数化单元的测试图案库中的测试图案为符号图和/或版图;

对参数化单元的测试图案库进行批量测试。

4.根据权利要求3所述的测试方法,其特征在于,根据各CDF参数的实例化的参数值,生成具有不同实例化的参数值组合的参数化单元的测试图案库,包括:

将各CDF参数按照实例化的参数值进行排列组合,生成具有不同实例化的参数值组合的参数化单元的测试图案库。

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