[发明专利]接合胶带、应用其的保护片及偏光板有效

专利信息
申请号: 201710541604.0 申请日: 2017-07-05
公开(公告)号: CN107189707B 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 郑唯豆;林益正;邱琬之 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: C09J7/20 分类号: C09J7/20;C09J7/40;G02B5/30
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;鲍俊萍
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 接合 胶带 应用 保护 偏光
【说明书】:

一种接合胶带、应用其的保护片及偏光板。接合胶带包括:一基材,具有一接合面与相对的一第一基材侧面与一第二基材侧面;以及一接合层,形成于该基材的该接合面上,该接合层与该第一基材侧面间隔一第一距离且与该第二基材侧面间隔一第二距离。保护片包括第一保护层、第二保护层及接合胶带。第二保护层与该第一保护层以边对边方式并排。接合胶带接合第一保护层与第二保护层。偏光板包括:一第一保护片;一第二保护片;以及一偏光层,配置在该第一保护片与该第二保护片之间。本发明可改善黏胶在压合过程中会溢出而污染到压合设备,进而污染到后续工艺的偏光板或其它种类的光学产品这一污染问题。

技术领域

本发明是有关于一种接合胶带、应用其的保护片及偏光板,且特别是有关于一种可接合二保护层的接合胶带、应用其的保护片及偏光板。

背景技术

传统上,可通过压合设备,将二保护片与偏光层压合成一偏光板。然而,保护片在制作过程中会需要用到黏胶,此黏胶在压合过程中会溢出而污染到压合设备,进而污染到后续工艺的偏光板或其它种类的光学产品。因此,如何改善前述污染问题是本技术领域业者努力的目标之一。

发明内容

本发明有关于一种接合胶带、应用其的保护片及偏光板,可改善黏胶在压合过程中会溢出而污染到压合设备,进而污染到后续工艺的偏光板或其它种类的光学产品这一污染问题。

本发明一实施例提出一种接合胶带。接合胶带包括一基材及一接合层。基材具有一接合面与相对的一第一基材侧面与一第二基材侧面。接合层形成于基材的接合面上,接合层与第一基材侧面间隔一第一距离且与第二基材侧面间隔一第二距离。

其中,该第一距离与该第二距离之和占该第一基材侧面与该第二基材侧面之间的距离的比例介于2%~20%。

本发明另一实施例提出一种保护片。保护片包括一第一保护层、一第二保护层及一前述的接合胶带。第二保护层与该第一保护层以边对边方式并排。接合胶带接合并排的第一保护层与第二保护层。

本发明另一实施例提出一种偏光板。偏光板包括一第一保护片、一第二保护片及一偏光层。偏光层配置在第一保护片与第二保护片之间。第一保护片与第二保护片至少一者具有如前述一种保护片的结构。

其中,该第一保护片及/或该第二保护片的该接合胶带与该偏光层直接接触。

本发明另一实施例提出另外一种保护片。保护片包括一第一保护层、一第二保护层、一接合胶带及一裁切胶带。第二保护层与该第一保护层以边对边方式并排。接合胶带接合并排的第一保护层与第二保护层。第一保护层具有表面处理层,裁切胶带黏贴在第一保护层相对表面处理层的另一表面上,且接合胶带覆盖整个裁切胶带。

其中,该裁切胶带具有一胶带侧面,该第一保护层具有一保护层侧面,该胶带侧面与该保护层侧面切齐。

其中,该裁切胶带及该接合胶带各包括一接合层,该接合胶带的该接合层的一接合层侧面突出超过该裁切胶带的该接合层的一接合层侧面,使该接合胶带、该裁切胶带与该第一保护层之间形成一容胶空间。

其中,该接合胶带突出超过该裁切胶带的一胶带侧面而黏贴在该第二保护层上,使该接合胶带、该裁切胶带与该第二保护层之间形成一容胶空间。

其中,更包括一裁切道,该裁切道经过该第一保护层及该裁切胶带,且该裁切道沿一直线、一曲线或其组合延伸。

本发明另一实施例提出一种偏光板。偏光板包括一第一保护片、一第二保护片及一偏光层。偏光层配置在第一保护片与第二保护片之间。第一保护片与第二保护片至少一者具有如前述另外一种保护片的结构。

其中,该第一保护片与该第二保护片的一者具有前述一种保护片的结构,而该第一保护片与该第二保护片的另一者具有前述另一种保护片的结构。

其中,该第一保护片的该接合胶带与该第二保护片的该接合胶带相对配置。

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