[发明专利]感光性组合物及硬化膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种在电子零件中的绝缘材料、半导体装置中的钝化膜、缓冲涂膜、层间绝缘膜或平坦化膜，或者显示元件中的层间绝缘膜或彩色滤光片用保护膜等的形成中所使用的感光性组合物、利用该感光性组合物的硬化膜及具有该硬化膜的电子零件。

背景技术

在仅于所需部分形成保护膜的情况下或在绝缘膜中形成孔图案的情况下，一直使用感光性组合物。作为感光性组合物的例子，可列举丙烯酸系的正型感光性组合物(专利文献1)。伴随着提高显示器所要求的可靠性的要求特性，而提高显示器构件所要求的耐热性中，专利文献1中记载的材料的问题在于进一步的高耐热性化。为了解决该问题，提出有耐热性良好的聚酯酰胺酸系的正型感光性组合物(专利文献2)。进而，伴随着近年来的显示器的大型化，而成为容易产生保护膜形成步骤的干燥步骤中的面内的干燥不均的状态。该状态中，专利文献2中记载的正型感光性组合物中，在干燥不充分且残存溶剂多的部位中，有在局部的孔图案中产生显影液渗透的情况。如果产生该显影液渗透，则面板显示品质会降低。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平5-165214

[专利文献2]日本专利特开2008-102351

发明内容

[发明所要解决的问题]

本发明的问题在于提供一种耐热性良好且相对于显影液渗透的干燥温度裕度广的保护膜用感光性组合物。

[解决问题的技术手段]

本发明者为了解决所述问题而进行了努力研究，结果发现通过如下的组合物、及使该组合物硬化所获得的硬化膜可达成所述目的，从而完成了本发明，所述组合物包含聚酯酰胺酸、含环氧基的共聚物及1,2-醌二叠氮化合物。

本发明包含以下的构成。

[1]一种感光性组合物，其包含：聚酯酰胺酸(A)、含环氧基的共聚物(B)及1,2-醌二叠氮化合物(C)；

所述聚酯酰胺酸(A)包含下述式(1)所表示的构成单元及下述式(2)所表示的构成单元；

所述含环氧基的共聚物(B)为具有环氧基的聚合性化合物(b1)及(b1)以外的聚合性化合物(b2)的共聚物；

所述聚合性化合物(b2)包含选自下述式(3)所表示的化合物及下述式(4)所表示的化合物中的一种以上，

在式(1)中，R¹是碳数2～1000的有机基，R²是碳数2～1000的有机基；

在式(2)中，R³是碳数2～1000的有机基，R⁴是碳数2～100的有机基；

在式(3)中，R⁵为氢或碳数1～7的有机基，R⁶为碳数1～6的亚烷基，R⁷为碳数1～20的有机基，n1为1～100的整数；

在式(4)中，R⁸为氢或碳数1～7的有机基，R⁹及R¹⁰分别独立地为碳数1～7的有机基或-OSi(R¹²)₃，R¹¹为碳数1～7的有机基或-Si(R¹³)₃，n2为2～10的整数，n3为1～100的整数，R¹²及R¹³分别独立地为氢或碳数1～7的有机基。

[2]根据项[1]所述的感光性组合物，其中所述式(1)所表示的构成单元为将具有两个以上的酸酐基的化合物(a1)及二胺(a2)设为原料的构成单元；

所述式(2)所表示的构成单元为将具有两个以上的酸酐基的化合物(a1)及多元羟基化合物(a3)设为原料的构成单元。

[3]根据项[2]所述的感光性组合物，其中所述具有两个以上的酸酐基的化合物(a1)为选自四羧酸二酐及苯乙烯-顺丁烯二酸酐共聚物中的一种以上的化合物；

所述聚酯酰胺酸(A)为以使下述式(5)及式(6)的关系成立的比率包含X摩尔的四羧酸二酐、Y摩尔的二胺及Z摩尔的多元羟基化合物的原料的反应产物，

0.2≦Z/Y≦8.0···(5)

0.2≦(Y+Z)/X≦5.0···(6)。

[4]根据项[1]所述的感光性组合物，其中所述具有环氧基的聚合性化合物(b1)为选自具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯中的一种以上；