[发明专利]聚晶立方氮化硼烧结体及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，它包括粘结剂、分散在所述粘结剂中且形成骨架结构的立方氮化硼粗粒和分散在所述粘结剂中的立方氮化硼细粒；其中，所述立方氮化硼粗粒的颗粒形状系数≤0.5，所述立方氮化硼细粒的颗粒形状系数为0.7～0.8。

2.根据权利要求1所述的聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，所述立方氮化硼粗粒和所述立方氮化硼细粒的平均粒径之比为（3～5）:1。

3. 根据权利要求1或2所述的聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，所述立方氮化硼粗粒的平均粒径为10～30 μm；所述立方氮化硼细粒的平均粒径为3～10 μm。

4.根据权利要求3所述的聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，在所述聚晶立方氮化硼烧结体中，所述立方氮化硼粗粒的质量分数为20%～30%，所述立方氮化硼细粒的质量分数为50%～66%。

5.根据权利要求4所述的聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，所述粘结剂包括金属陶瓷结合剂、稀土氧化物和晶须。

6.根据权利要求5所述的聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，所述金属陶瓷结合剂包括金属相和陶瓷相；所述金属相是钛粉、铝粉、钴粉、钼粉、硅粉中的一种或至少两种组合，所述陶瓷相是钛、铝、钴、钼、硅中的至少一种元素的碳化物、氮化物、碳氮化物、硼化物或氧化物。

7.根据权利要求5或6所述的聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，所述稀土氧化物是三氧化二钇、氧化铈或两者的组合。

8. 根据权利要求5所述的聚晶立方氮化硼烧结体，其特征在于，所述晶须为粒度小于2.5 μm且长径比大于20的碳化硅晶须。

9.一种根据权利要求1～8任一项所述的聚晶立方氮化硼烧结体的制备方法，其包括以下步骤：

将所述粘结剂、所述立方氮化硼粗粒和所述立方氮化硼细粒混合均匀，制得混合物料；

在60～100MPa条件下，将所述混合物料压制成坯，得到坯体；

将所述坯体在4～6.5GPa、1400～1650℃条件下保持10～25 min，取出，得到所述聚晶立方氮化硼烧结体。

10.一种聚晶立方氮化硼烧结体工具，其特征在于，它包括权利要求1～8任一项所述的聚晶立方氮化硼烧结体。