[发明专利]一种用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统在审
申请号: | 201710535341.2 | 申请日: | 2017-07-03 |
公开(公告)号: | CN107271428A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 张勇;王世功;赵珍阳;史磊;田中朝;许玉兴;赵玉新 | 申请(专利权)人: | 山东东仪光电仪器有限公司 |
主分类号: | G01N21/71 | 分类号: | G01N21/71 |
代理公司: | 北京中索知识产权代理有限公司11640 | 代理人: | 宋涛 |
地址: | 264670 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 微波 等离子体 发射光谱 固体 分析 系统 | ||
1.一种用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,包括:
激光器,用于输出预定波长的激光;
光学扩束装置,用于将激光扩散处理;
光路调节装置,用于将扩散处理后的激光光束按预定角度反射和/或将可见光透射处理;
光学聚焦装置,用于将激光光束聚焦处理后传送到样品室;
样品室,用于放置样品,并接收聚焦后的激光对样品进行烧蚀处理;
成像处理装置,用于将所述光路调节装置透射处理后的可见光成像处理。
2.根据权利要求1所述的用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,所述激光器为Nd:YAG灯泵浦激光器;所述激光器输出的激光波长为213nm。
3.根据权利要求1所述的利用微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,所述光学扩束装置包括:
凹面镜,用于将激光扩散处理;
凸透镜,设于所述凹面镜之后,用于将扩散的激光转换为平行激光束。
4.根据权利要求1所述的用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,所述光路调节装置包括:
光阑,用于选择性的提供不同孔径大小的透光孔;所述光阑连有驱动装置;
二向色散反射镜,其向所述光阑一侧倾斜45°放置。
5.根据权利要求1所述的用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,所述光学聚焦装置包括目镜和设于其后的物镜;所述物镜连有距离调节装置。
6.根据权利要求1所述的用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,所述样品室外部连有载气回路,所述载气回路两端设有第一阀门和第二阀门;所述样品室顶部设有石英窗口玻璃、内部设有三维步进电机样品台。
7.根据权利要求1所述的用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,所述成像处理装置包括:
可见光反射镜,用于将可见光按预定角度反射;
可见光聚焦透镜,用于将反射后的可见光聚焦;
CCD相机,用于将聚焦后的可见光进行成像处理。
8.根据权利要求6所述的用于微波等离子体炬发射光谱的固体进样分析系统,其特征在于,所述载气为N2。
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