[发明专利]显示基板的修复方法、修复系统、显示基板及显示面板在审
申请号: | 201710534133.0 | 申请日: | 2017-07-03 |
公开(公告)号: | CN107145019A | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | 任兴凤;冯耀耀;程永久 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 修复 方法 系统 面板 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板的修复方法、修复系统、显示基板及显示面板。
背景技术
显示基板的生产工艺中信号线的断路和短路不良严重降低产品良率,所以信号线的修复对提高产品良率至关重要。
修复时,对于断路的不良,可以采用修复技术在断开处沉积导电膜层,以形成修复线将断开处连接起来;对于信号线之间短路的不良,需要利用激光将信号线之间造成短路的导电颗粒去除,同时,信号线在该短路位置也会被激光断开,需要在断开处沉积导电膜层,以形成修复线将短路修复时形成的断开处连接起来。
但是,在修复之后,后段的清洗、涂覆等工序可能会影响该修复线,甚至使其脱落,导致修复失败。因此,以上现有技术对信号线的修复效果不佳,影响了产品品质。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种显示基板的修复方法、修复系统、显示基板及显示面板,用于解决现有技术中对信号线的修复效果不佳的问题。
本发明实施例的目的是通过以下技术方案实现的:
一种显示基板的修复方法,该方法包括:
在检测到显示基板的信号线发生断路或者短路之后,在信号线发生断路的断开处或者在信号线短路修复时形成的断开处,形成修复线;
至少在所述修复线所在区域形成保护层。
较佳地,在信号线发生断路的断开处或者在信号线短路修复时形成的断开处,形成修复线,包括:
将所述断开处上方的膜层去除,形成凹槽;
在所述凹槽内形成所述修复线;
所述至少在所述修复线所在区域形成保护层,包括:
在形成有所述修复线的所述凹槽内填充所述保护层,至所述凹槽被填平。
较佳地,所述保护层具有遮光性能。
较佳地,所述至少在所述修复线所在区域形成保护层,包括:
在所述修复线所在的像素单元中,仅在包含所述修复线的部分像素单元区域形成所述保护层或者在整个像素单元区域形成所述保护层。
较佳地,所述保护层具有绝缘性能。
较佳地,所述保护层的材料为有机材料。
较佳地,所述形成修复线,包括:
采用激光化学气相沉积修复技术或喷墨印刷技术形成修复线。
较佳地,所述至少在所述修复线所在区域形成保护层,包括:
采用喷墨印刷技术至少在所述修复线所在区域涂覆保护层材料;
对涂覆的保护层材料进行固化处理,以形成所述保护层。
一种显示基板,包括多条信号线;其中,存在经过断路或者短路修复的信号线,在该信号线的断开处设置有修复线,至少在所述修复线所在区域设置有保护层。
较佳地,所述信号线为源极信号线;所述显示基板还包括在所述信号线上层叠的有机膜层、导电层、绝缘层;
在所述信号线的断开处设置有贯穿所述有机膜层、导电层、绝缘层的凹槽;
所述修复线设置于所述凹槽内;所述凹槽被具有遮光性能的所述保护层填平;
该保护层还覆盖所述凹槽以及所述凹槽所在区域的周边区域。
较佳地,所述信号线为源极信号线;所述显示基板还包括在所述信号线上层叠的绝缘层、有机膜层;
在所述信号线的断开处设置有贯穿所述绝缘层、有机膜层的凹槽;
所述修复线设置于所述凹槽内;所述凹槽内具有遮光绝缘性能的所述保护层填平;
所述显示基板还包括在所述保护层和有机膜层上层叠的发光层、阴极层。
一种显示面板,包括如以上任一项所述的显示基板。
一种显示基板修复系统,包括:
激光化学气相沉积修复设备,用于在检测到显示基板的信号线发生断路或者短路之后,在信号线发生断路的断开处或者在信号线短路修复时形成的断开处,形成修复线;
喷墨印刷设备,用于至少在所述修复线所在区域形成保护层。
本发明实施例的有益效果如下:
本发明实施例提供的显示基板的修复方法、修复系统、显示基板及显示基板中,在对信号线的断开处形成修复线之后,还要进一步形成保护层将该修复线保护起来,消除了后段的清洗、涂覆等工艺对该修复线的影响,避免其脱落导致修复失败,从而提高了修复效果和产品品质。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种显示基板的修复方法流程图;
图2为现有的一种有机膜层结构的显示基板的修复结构示意图;
图3为现有的一种OLED显示基板的修复结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710534133.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。