[发明专利]阵面阵架静态稳定性以及变形的计算方法在审

专利信息
申请号: 201710534116.7 申请日: 2017-07-03
公开(公告)号: CN107480326A 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 俞刘建;王志成;刘广;窦怡彬;唐晓峰;许斌;张凤岗;惠轶;贾耀兴;庄国平 申请(专利权)人: 上海机电工程研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司31236 代理人: 郭国中
地址: 201108 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 阵面阵架 静态 稳定性 以及 变形 计算方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种计算方法,具体地,涉及一种阵面阵架静态稳定性以及变形的计算方法。

背景技术

阵面阵架是专门设计的结构框架,功能是安装、支撑辐射天线阵列,形成辐射场,并为辐射天线阵列的维护及射频馈电系统设备的放置提供平台场地,同时为工作人员提供系统安装、集成、调试、维护的工作平台和空间。阵面阵架由于曲率半径和表面积的需求,尺寸和质量往往较大,最终导致阵面阵架的质量达数百吨级。为了保证阵面阵架的安全性,从保守考虑,阵面阵架需能够自由放置保持自身稳定,刚度和强度满足设计要求。传统的理论计算方法不能适应如此复杂的结构,Adams动力学计算方法不能考虑结构变形对重心的影响。

因此,业界需要一种不仅能够同时计算结构稳定性、强度和刚度而且能够加入非线性控制,能够模拟出阵面阵架由于刚性不足,在自重下产生较大变形从而质心进一步倾覆最终导致发散的状态。

发明内容

针对现有技术中的缺陷,本发明的目的是提供一种阵面阵架静态稳定性以及变形的计算方法,其能够同时计算阵面阵架的结构稳定性,强度和刚度,并能够对重力、刚度耦合进行模拟并给出结论。

根据本发明的一个方面,提供一种阵面阵架静态稳定性以及变形的计算方法,其包括以下步骤:

步骤一,将阵面阵架简化为梁、壳结构,在MSC.Patran中建立阵面阵架网格模型;

步骤二,赋予梁单元一定的截面和截面方向,壳单元相应的厚度;

步骤三,对模型施加重力加速度边界条件;

步骤四,在所有底部节点和地面之间建立GAP单元,赋予GAP单元较大的闭合刚度以及正确的静摩擦和动摩擦系数;

步骤五,提交MSC.Nastran进行隐式非线性静力分析,考虑大位移大应变的影响;

步骤六,对计算结果进行分析,如果最终计算时间Time=1,则表明结构最终可以达到稳定,若Time<1,则说明阵面阵架发散倾覆。

优选地,所述步骤四中通过在阵面阵架与地面之间建立虚拟的GAP单元。

优选地,所述步骤四中静摩擦和动摩擦系数是通过GAP单元的引入的。

优选地,所述步骤六中通过计算结束时间给出阵面阵架是否倾覆的结论。

与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:本发明能够同时计算阵面阵架的结构稳定性,强度和刚度,并能够对重力、刚度耦合进行模拟并给出结论。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:

图1为本发明阵面阵架静态稳定性以及变形的计算方法的流程图。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明,但不以任何形式限制本发明。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进。这些都属于本发明的保护范围。

如图1所示,本发明阵面阵架静态稳定性以及变形的计算方法包括以下步骤:

步骤一,将阵面阵架简化为梁、壳结构,在MSC.Patran(有限元分析软件)中建立阵面阵架网格模型;

步骤二,赋予梁单元一定的截面和截面方向,壳单元相应的厚度;

步骤三,对模型施加重力加速度边界条件;

步骤四,在所有底部节点和地面之间建立GAP(空隙)单元,赋予GAP单元较大的闭合刚度以及正确的静摩擦和动摩擦系数;

步骤五,提交MSC.Nastran进行隐式非线性静力分析,考虑大位移大应变的影响;

步骤六,对计算结果进行分析,如果最终计算时间Time=1,则表明结构最终可以达到稳定,若Time<1,则说明阵面阵架发散倾覆。

步骤四中通过在阵面阵架与地面之间建立虚拟的GAP单元,模拟阵面阵架自由放置条件下与地面的接触状态。

步骤四中静摩擦和动摩擦系数是通过GAP单元的引入的,能够同时计算出阵面阵架的变形和强度。

步骤六中通过计算结束时间给出阵面阵架是否倾覆的结论,这样能够说明阵面阵架是否发散倾覆。

综上所述,本发明能够同时计算阵面阵架的结构稳定性,强度和刚度,并能够对重力、刚度耦合进行模拟并给出结论。

以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本发明并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改,这并不影响本发明的实质内容。

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